Features of mechanical scanning probe lithography on graphene oxide and As(Ge)Se chalcogenide resist
Збережено в:
Дата: | 2018 |
---|---|
Автори: | P. M. Lytvyn, S. V. Malyuta, I. Z. Indutnyi, A. A. Efremov, O. V. Slobodyan, V. I. Minko, A. N. Nazarov, O. V. Borysov, I. V. Prokopenko |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2018
|
Назва видання: | Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000899772 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Fabrication of silicon grating structures using interference lithography and chalcogenide inorganic photoresist
за авторством: Min’ko, V.I., та інші
Опубліковано: (2007) -
Nanopatterning Au chips for SPR refractometer by using interference lithography and chalcogenide photoresist
за авторством: V. A. Danko, та інші
Опубліковано: (2015) -
Nanopatterning Au chips for SPR refractometer by using interference lithography and chalcogenide photoresist
за авторством: Dan’ko, V.A., та інші
Опубліковано: (2015) -
Mechanical scanning probe nanolithography: modeling and application
за авторством: P. M. Lytvyn, та інші
Опубліковано: (2012) -
Mechanical scanning probe nanolithography: modeling and application
за авторством: Lytvyn, P.M., та інші
Опубліковано: (2012)