Potapov, V. A., & Belyj, D. V. (2018). Prospects for the Use of Carbon Dioxide in Low-Temperature Devices for Cryogenic Technologies.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Potapov, V. A., та D. V. Belyj. Prospects for the Use of Carbon Dioxide in Low-Temperature Devices for Cryogenic Technologies. 2018.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Potapov, V. A., та D. V. Belyj. Prospects for the Use of Carbon Dioxide in Low-Temperature Devices for Cryogenic Technologies. 2018.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.