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Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures

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Bibliographische Detailangaben
Datum:	2017
Hauptverfasser:	V. V. Hladkovskiy, O. A. Fedorovich
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	2017
Schriftenreihe:	Ukrainian Journal of Physics
Online Zugang:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000703195
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