Зображення обкладинки

Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2017
Автори:	V. V. Hladkovskiy, O. A. Fedorovich
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	2017
Назва видання:	Ukrainian journal of physics
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000703424
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси

Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)

Plasma etching of gallium nitride based heterostructures in production of optoelectronic devices
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)

Plasma sterilization in low-pressure RF discharge
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2000)

Plasma cleaning of technological chambers in rf capacitive discharges
за авторством: V. Lisovskij, та інші
Опубліковано: (2004)

Influence of dust particles on RF-discharge plasma afterglow
за авторством: Kravchenko, O.Yu., та інші
Опубліковано: (2015)

Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)

Influence of the plasma chemical etching on the silicon plates surface of photo electric converters
за авторством: B. P. Polozov, та інші
Опубліковано: (2006)

The investigation of RF discharge in the procession-plasma method by coating films
за авторством: V. I. Gritsenko, та інші
Опубліковано: (2003)

Investigation of the influence of oxygen on the rate and anisotropy of deep etching of silicon in the plasma-chemical reactor with the controlled magnetic field
за авторством: V. V. Gladkovskij, та інші
Опубліковано: (2017)

Development of Technology for Vacuum Surface Conditioning by RF Plasma Discharge Combined with DC Discharge
за авторством: Yu. V. Kovtun, та інші
Опубліковано: (2021)

Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)

2-D electron system in the RF-discharge plasma. Part I. General observations
за авторством: Berezhnyj, V.L., та інші
Опубліковано: (2018)

Theoretical and experimental investigation of the plasma source with argon RF barrier discharge at atmospheric pressure
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2014)

Plasma parameters evolution during conditioning RF discharges in Uragan-2M torsatron
за авторством: Skibenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2009)

Basic plasma features of planar jet formed by capacitive RF discharge in atmosphere pressure argon
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2019)

High-frequency discharges of low pressure in vacuum-plasma technology of low power-consuming for microstructure etching
за авторством: V. I. Farenik
Опубліковано: (2004)

Beam dynamics in RF gun with plasma cathode
за авторством: Khodak, I.V., та інші
Опубліковано: (2017)

About peculiarities of self-bias voltage formation in plasma-chemical reactors with controlled magnetic fields
за авторством: Hladkovskiy, V.V., та інші
Опубліковано: (2015)

Research and development of technological systems based on high-frequency induction discharge for reactive ion-plasma etching of micro- and nanostructures
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2009)

Application of driven plasma cathode in RF electron gun
за авторством: Khodak, I.V., та інші
Опубліковано: (2004)

Influence of intensive etching processes on structure and properties of carbon nitride films
за авторством: Shalaev, R.V., та інші
Опубліковано: (2008)

The bias voltage and its influence on the etching rate of silicon
за авторством: Fedorovich, О.А., та інші
Опубліковано: (2015)

Reflection coefficient and optical conductivity of gallium nitride GaN
за авторством: J. O. Akinlami, та інші
Опубліковано: (2012)

Optimization of self-consistent code for modelling of RF plasma production
за авторством: Moiseenko, V.Е., та інші
Опубліковано: (2015)

Development of high-stable contact systems to gallium nitride microwave diodes
за авторством: Belyaev, A.E., та інші
Опубліковано: (2007)

Development of deep silicon plasma etching for 3D integration technology
за авторством: A. A. Golishnikov, та інші
Опубліковано: (2014)

About unrealization of tungsten lines up to the ground state in the nonideal plasma of pulse discharges in water
за авторством: Fedorovich, O.A.
Опубліковано: (2009)

Optical approach to analysis of interaction of gallium nitride and weak magnetic fields
за авторством: Red'ko, R.A.
Опубліковано: (2015)

Vacuum—Plasma Coatings Based on the Multielement Nitrides
за авторством: N. A. Azarenkov, та інші
Опубліковано: (2013)

RF field pattern in the plasma cylinder of finite length for various antennas
за авторством: Grekov, D.L., та інші
Опубліковано: (2005)

Researching of acoustic waves in plasma-liquid system with pulsed discharge
за авторством: Iukhymenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2015)

Structure of aluminum nitride layers formed under ion-plasma spraying
за авторством: Z. A. Duriahina, та інші
Опубліковано: (2013)

The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)

The formation of fractal carbon structures in the plasma ARC discharge
за авторством: L. G. Keush
Опубліковано: (2016)

Studies of electric arc discharge plasma with addition of copper and chrome
за авторством: A. M. Veklych, та інші
Опубліковано: (2014)

Ion-plasma nitriding of inner cylindrical surfaces of products
за авторством: I. V. Smyrnov, та інші
Опубліковано: (2022)

Dissociative mode in low-pressure RF discharge
за авторством: V. A. Lisovskij
Опубліковано: (2006)

Simulation of capacitively coupled RF discharge in argon
за авторством: Lisovskiy, V., та інші
Опубліковано: (2023)

Plasma reforming of ethanol in DGCLW discharge
за авторством: Yukhymenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2011)

Application of dielectric barrier discharge and plasma-chemical reactor for water purification from NH₄OH
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2020)