Oxygen ion-beam modification of vanadium oxide films for reaching a high value of the resistance temperature coefficient
Збережено в:
| Дата: | 2017 |
|---|---|
| Автори: | T. M. Sabov, O. S. Oberemok, O. V. Dubikovskyi, V. P. Melnik, V. P. Kladko, B. M. Romanyuk, V. G. Popov, Yo. Gudymenko, N. V. Safriuk |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
2017
|
| Назва видання: | Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000741617 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
The structure and crystallisation of laser condensates vanadium deposited in oxygen atmosphere
за авторством: Bagmut, A.G., та інші
Опубліковано: (2006) -
Influence of the furnace lining on the behavior of vanadium at alloying of carbon steel with vanadium from oxide melt of TPs
за авторством: V. N. Kostjakov, та інші
Опубліковано: (2014) -
Formation of silicon nanoclusters in buried ultra-thin oxide layers
за авторством: O. S. Oberemok, та інші
Опубліковано: (2011) -
Formation of silicon nanoclusters in buried ultra-thin oxide layers
за авторством: Oberemok, O.S., та інші
Опубліковано: (2011) -
Dopant depth profile modification during mass Spectrometric analysis of multilayer nanostructures
за авторством: A. A. Efremov, та інші
Опубліковано: (2015)