IR spectroscopic study of thin ZnO films grown using the atomic layer deposition method
Gespeichert in:
| Datum: | 2016 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | Ye. F. Venher, Yu. Melnychuk, O. V. Melnychuk, T. V. Semikina |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
2016
|
| Schriftenreihe: | Ukrainian Journal of Physics |
| Online Zugang: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000674436 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Institution
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASÄhnliche Einträge
-
IR Spectroscopic Study of Thin ZnO Films Grown Using the Atomic Layer Deposition Method
von: E. F. Venger, et al.
Veröffentlicht: (2016) -
Diode structures and electrical properties of ZnO films grown using the atomic layer deposition method
von: T. V. Semikina
Veröffentlicht: (2016) -
ZnO thin films obtained by atomic layer deposition as a material for photovoltaics
von: T. V. Semikina, et al.
Veröffentlicht: (2016) -
ZnO thin films obtained by atomic layer deposition as a material for photovoltaics
von: T. V. Semikina, et al.
Veröffentlicht: (2016) -
Surface polariton excitation in ZnO films deposited using ALD
von: E. F. Venger, et al.
Veröffentlicht: (2015)