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Raman scattering in the process of tin-induced crystallization of amorphous silicon

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Bibliographische Detailangaben
Datum:	2016
Hauptverfasser:	V. Neimash, G. Dovbeshko, P. Shepelyavyi, V. Danko, V. Melnyk, M. Isaiev, A. Kuzmich
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	2016
Schriftenreihe:	Ukrainian journal of physics
Online Zugang:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000721082
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