ZnO thin films obtained by atomic layer deposition as a material for photovoltaics
Збережено в:
Дата: | 2016 |
---|---|
Автори: | T. V. Semikina, S. V. Mamykin, G. I. Sheremet, L. N. Shmyreva |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2016
|
Назва видання: | Ukrainian journal of physics |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000722978 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
ZnO thin films obtained by atomic layer deposition as a material for photovoltaics
за авторством: T. V. Semikina, та інші
Опубліковано: (2016) -
IR spectroscopic study of thin ZnO films grown using the atomic layer deposition method
за авторством: Ye. F. Venher, та інші
Опубліковано: (2016) -
IR Spectroscopic Study of Thin ZnO Films Grown Using the Atomic Layer Deposition Method
за авторством: E. F. Venger, та інші
Опубліковано: (2016) -
Diode structures and electrical properties of ZnO films grown using the atomic layer deposition method
за авторством: T. V. Semikina
Опубліковано: (2016) -
Тонкi плiвки ZnO, отриманi методом АПО, як матерiал для фотовольтаїки
за авторством: Semikina, T. V., та інші
Опубліковано: (2019)