Neimash, V. B., Dovbeshko, H. I., Shepeliavyi, Y., Danko, V. A., Melnyk, V. V., Isaiev, M. V., & Kuzmych, A. H. (2016). Raman scattering in the process of tin-induced crystallization of amorphous silicon.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Neimash, V. B., H. I. Dovbeshko, Ye Shepeliavyi, V. A. Danko, V. V. Melnyk, M. V. Isaiev, та A. H. Kuzmych. Raman Scattering in the Process of Tin-induced Crystallization of Amorphous Silicon. 2016.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Neimash, V. B., et al. Raman Scattering in the Process of Tin-induced Crystallization of Amorphous Silicon. 2016.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.