Popovych, V. I., Yevtushenko, A. I., Lytvyn, O. S., Romaniuk, V. R., Tkach, V. M., Baturyn, V. A., . . . Lashkarov, H. V. (2016). Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Popovych, V. I., et al. Effect of Argon Deposition Pressure on the Properties of Aluminum-doped ZnO Films Deposited Layer-by-layer Using Magnetron Sputtering. 2016.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Popovych, V. I., et al. Effect of Argon Deposition Pressure on the Properties of Aluminum-doped ZnO Films Deposited Layer-by-layer Using Magnetron Sputtering. 2016.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.