Study of damaged layer depth in thermoelectric materials by X-ray diffraction interferometry
Збережено в:
| Дата: | 2016 |
|---|---|
| Автор: | V. P. Shafranyuk |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
2016
|
| Назва видання: | Journal of thermoelectricity |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000734006 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Investigation of damaged layer formed at mechanical treatment of sapphire using three-crystal X-ray diffraction method
за авторством: Tkachenko, V.F., та інші
Опубліковано: (2014) -
Research on structural perfection of CdSb thermoelectric materials using Kh-ray diffraction methods
за авторством: V. P. Shafraniuk, та інші
Опубліковано: (2017) -
Research on structural perfection of CdSb thermoelectric materials using Kh-ray diffraction methods
за авторством: V. P. Shafranjuk, та інші
Опубліковано: (2017) -
New automated shear cell with diamond anvils for in situ studies of materials using X-ray diffraction
за авторством: N. V. Novikov, та інші
Опубліковано: (2015) -
Thermoelectric Coolers for X-Ray Detectors
за авторством: L. I. Anatychuk, та інші
Опубліковано: (2020)