Research on mechanical stress relaxation in real crystals by X-ray diffraction moire method
Збережено в:
Дата: | 2016 |
---|---|
Автор: | V. P. Shafraniuk |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2016
|
Назва видання: | Journal of thermoelectricity |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000762951 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Research on structural perfection of CdSb thermoelectric materials using Kh-ray diffraction methods
за авторством: V. P. Shafraniuk, та інші
Опубліковано: (2017) -
Investigation of damaged layer formed at mechanical treatment of sapphire using three-crystal X-ray diffraction method
за авторством: Tkachenko, V.F., та інші
Опубліковано: (2014) -
Influence of absorption level on mechanisms of Braggdiffracted x-ray beam formation in real silicon crystals
за авторством: Klad'ko, V. P., та інші
Опубліковано: (1999) -
Growing and X-ray diffraction pattern of single-crystal double phosphate Li₂Mn(PO₃)₄
за авторством: Nagorny, P.G., та інші
Опубліковано: (2018) -
Residual stresses in Ti₄₁¸₅Zr₄₁¸₅Ni₁₇ quasi-crystalline ribbons measured by X-ray diffraction
за авторством: Malykhin, S.
Опубліковано: (2007)