Naidich, Y. V., Hab, I. I., Stetsiuk, T. V., Kostiuk, B. D., & Martyniuk, S. I. (2016). Kinetics of disintegration of titanium and zirconium nanofilms deposited onto silicon carbide and aluminium nitride as result of annealing them in vacuum.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Naidich, Yu. V., I. I. Hab, T. V. Stetsiuk, B. D. Kostiuk, та S. I. Martyniuk. Kinetics of Disintegration of Titanium and Zirconium Nanofilms Deposited onto Silicon Carbide and Aluminium Nitride as Result of Annealing Them in Vacuum. 2016.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Naidich, Yu. V., et al. Kinetics of Disintegration of Titanium and Zirconium Nanofilms Deposited onto Silicon Carbide and Aluminium Nitride as Result of Annealing Them in Vacuum. 2016.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.