Зображення обкладинки

Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2021
Автори:	A. V. Pankratova, A. A. Kriuchyn, Yu. O. Borodin, Ye. V. Beliak, O. V. Pryhun
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	2021
Назва видання:	Data recording, storage &amp; processing
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001267905
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси

Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching
за авторством: Панкратова, А. В., та інші
Опубліковано: (2021)

Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching
за авторством: Іваницький, В. П., та інші
Опубліковано: (2024)

Optical Disc for Long-Term Data Storage Based on Chromium Film
за авторством: Gorbov, I.V., та інші
Опубліковано: (2016)

Photostimulated etching of germanium chalcogenide films
за авторством: V. A. Danko, та інші
Опубліковано: (2012)

Photostimulated etching of germanium chalcogenide films
за авторством: Dan’ko, V.A., та інші
Опубліковано: (2012)

Nanodimensional formations on the CdTe and ZnₓCd₁₋ₓTe surfaces at chemical etching
за авторством: Tomashyk, Z.F., та інші
Опубліковано: (2008)

Optical Properties of Galvanic Series of Matrices for Microrelief Light Reflective Structures
за авторством: Antonov, E. E., та інші
Опубліковано: (2013)

Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)

Photoinduced etching of thin films of chalcogenide glasses
за авторством: V. A. Danko, та інші
Опубліковано: (2012)

Investigation of the influence of oxygen on the rate and anisotropy of deep etching of silicon in the plasma-chemical reactor with the controlled magnetic field
за авторством: V. V. Gladkovskij, та інші
Опубліковано: (2017)

Influence of intensive etching processes on structure and properties of carbon nitride films
за авторством: Shalaev, R.V., та інші
Опубліковано: (2008)

Diffraction Control of Optical Discs Microrelief
за авторством: Antonov, E. E., та інші
Опубліковано: (2016)

Investigations of surface morphology and microrelief of GaAs single crystals by complementary methods
за авторством: Zymierska, D., та інші
Опубліковано: (2000)

Development of anti-reflecting surfaces based on Si micropyramids and wet-chemically etched Si nanowire arrays
за авторством: Druzhinin, A.A., та інші
Опубліковано: (2018)

Investigation of electrical c haracteristics of heteroepitaxial structures as a function of microrelief and manufacturing technology features
за авторством: Dmitruk, N.L., та інші
Опубліковано: (2005)

Features of plasma chemical etching of lithium tantalate substrate (LiTaO₃)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2021)

Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)

Influence of the plasma chemical etching on the silicon plates surface of photo electric converters
за авторством: B. P. Polozov, та інші
Опубліковано: (2006)

Optimization of conditions for treatment of ZnSe crystal surfaces by chemical etching
за авторством: V. M. Tomashyk, та інші
Опубліковано: (2013)

Optimization of conditions for treatment of ZnSe crystal surfaces by chemical etching
за авторством: Tomashyk, V.M., та інші
Опубліковано: (2013)

Photometric monitoring of etching rate of thin dielectric films
за авторством: S. E. Semenova, та інші
Опубліковано: (2006)

Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)

Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)

Phase formation and crystallization of films deposited by pulse laser sputtering of chromium in oxygen atmosphere
за авторством: Bagmut, A.G., та інші
Опубліковано: (2006)

Vacuum method for creation of liquid crystal orienting microrelief
за авторством: Kolomzarov, Yu., та інші
Опубліковано: (2003)

The microrelief studies of stainless steel mirrors sputtered with Ar⁺ ions of different energy
за авторством: Bondarenko, V.N., та інші
Опубліковано: (2018)

Investigation of zirconium, titanium, chromium borides and titanium carbide with Ni-based self-fluxing alloy
за авторством: A. E. Terentev, та інші
Опубліковано: (2012)

Formation of neutral atomic beam for dry etching and study its charachteristics
за авторством: A. V. Voznyj, та інші
Опубліковано: (2006)

High-density data recording via laser thermo-lithography and ion-beam etching
за авторством: I. V. Gorbov, та інші
Опубліковано: (2014)

Predictive evaluation of physical and chemical properties of new compositions of chromium-containing ferroalloys
за авторством: O. P. Petrov, та інші
Опубліковано: (2022)

High-density data recording via laser thermo-lithography and ion-beam etching
за авторством: Gorbov, I.V., та інші
Опубліковано: (2014)

Direct laser writing of microrelief structures on chalcogenide glass by laser beam recorder of master discs
за авторством: Petrov, V. V., та інші
Опубліковано: (2020)

Direct laser writing of microrelief structures on chalcogenide glass by laser beam recorder of master discs
за авторством: V. V. Petrov, та інші
Опубліковано: (2020)

Chemical etching of CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe and Te in the HNO₃-HCl-citric acid
за авторством: Tomashik, Z.F., та інші
Опубліковано: (2005)

Investigations of surface morphology and chemical composition of Ag/ZnS/glassceramic thin-film structure
за авторством: Kurbatov, D., та інші
Опубліковано: (2008)

Formation of thin film Cr-N composites under ion bombardment at low rates of chromium deposition
за авторством: Guglya, A., та інші
Опубліковано: (2006)

Formation of thin film Cr-N composites under ion bombardment at low rates of chromium deposition
за авторством: Guglya, A., та інші
Опубліковано: (2006)

Surface microrelief obtained by composed target deposition for LC molecules alignment
за авторством: Kolomzarov, Yu., та інші
Опубліковано: (2006)

Au/GaAs photovoltaic structures with single-wall carbon nanotubes on the microrelief interface
за авторством: Dmitruk, N.L., та інші
Опубліковано: (2015)

Plasma etching of gallium nitride based heterostructures in production of optoelectronic devices
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)