Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching

Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2021
Автори:	A. V. Pankratova, A. A. Kriuchyn, Yu. O. Borodin, Ye. V. Beliak, O. V. Pryhun
Формат:	Стаття
Мова:	English
Опубліковано:	2021
Назва видання:	Data recording, storage & processing
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001267905
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси

Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching
за авторством: Панкратова, А. В., та інші
Опубліковано: (2021)

Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching
за авторством: Іваницький, В. П., та інші
Опубліковано: (2024)

Optical Disc for Long-Term Data Storage Based on Chromium Film
за авторством: Gorbov, I.V., та інші
Опубліковано: (2016)

Optical Properties of Galvanic Series of Matrices for Microrelief Light Reflective Structures
за авторством: Antonov, E. E., та інші
Опубліковано: (2013)

Photostimulated etching of germanium chalcogenide films
за авторством: V. A. Danko, та інші
Опубліковано: (2012)

Photostimulated etching of germanium chalcogenide films
за авторством: Dan’ko, V.A., та інші
Опубліковано: (2012)

Nanodimensional formations on the CdTe and ZnₓCd₁₋ₓTe surfaces at chemical etching
за авторством: Tomashyk, Z.F., та інші
Опубліковано: (2008)

Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)

Investigation of the influence of oxygen on the rate and anisotropy of deep etching of silicon in the plasma-chemical reactor with the controlled magnetic field
за авторством: V. V. Gladkovskij, та інші
Опубліковано: (2017)

Photoinduced etching of thin films of chalcogenide glasses
за авторством: V. A. Danko, та інші
Опубліковано: (2012)

Influence of intensive etching processes on structure and properties of carbon nitride films
за авторством: Shalaev, R.V., та інші
Опубліковано: (2008)

Investigations of surface morphology and microrelief of GaAs single crystals by complementary methods
за авторством: Zymierska, D., та інші
Опубліковано: (2000)

Diffraction Control of Optical Discs Microrelief
за авторством: Antonov, E. E., та інші
Опубліковано: (2016)

Development of anti-reflecting surfaces based on Si micropyramids and wet-chemically etched Si nanowire arrays
за авторством: Druzhinin, A.A., та інші
Опубліковано: (2018)

Investigation of electrical c haracteristics of heteroepitaxial structures as a function of microrelief and manufacturing technology features
за авторством: Dmitruk, N.L., та інші
Опубліковано: (2005)

Features of plasma chemical etching of lithium tantalate substrate (LiTaO₃)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2021)

Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)

Influence of the plasma chemical etching on the silicon plates surface of photo electric converters
за авторством: B. P. Polozov, та інші
Опубліковано: (2006)

Optimization of conditions for treatment of ZnSe crystal surfaces by chemical etching
за авторством: V. M. Tomashyk, та інші
Опубліковано: (2013)

Optimization of conditions for treatment of ZnSe crystal surfaces by chemical etching
за авторством: Tomashyk, V.M., та інші
Опубліковано: (2013)

Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)

Spectroscopic studies of RF discharge plasma at plasma-chemical etching of gallium nitride epitaxial structures
за авторством: V. V. Hladkovskiy, та інші
Опубліковано: (2017)

Photometric monitoring of etching rate of thin dielectric films
за авторством: S. E. Semenova, та інші
Опубліковано: (2006)

Phase formation and crystallization of films deposited by pulse laser sputtering of chromium in oxygen atmosphere
за авторством: Bagmut, A.G., та інші
Опубліковано: (2006)

Vacuum method for creation of liquid crystal orienting microrelief
за авторством: Kolomzarov, Yu., та інші
Опубліковано: (2003)

The microrelief studies of stainless steel mirrors sputtered with Ar⁺ ions of different energy
за авторством: Bondarenko, V.N., та інші
Опубліковано: (2018)

Investigation of zirconium, titanium, chromium borides and titanium carbide with Ni-based self-fluxing alloy
за авторством: A. E. Terentev, та інші
Опубліковано: (2012)

Formation of neutral atomic beam for dry etching and study its charachteristics
за авторством: A. V. Voznyj, та інші
Опубліковано: (2006)

High-density data recording via laser thermo-lithography and ion-beam etching
за авторством: I. V. Gorbov, та інші
Опубліковано: (2014)

Predictive evaluation of physical and chemical properties of new compositions of chromium-containing ferroalloys
за авторством: O. P. Petrov, та інші
Опубліковано: (2022)

Mapping between two models of etching process
за авторством: Patsahan, T., та інші
Опубліковано: (2007)

Direct laser writing of microrelief structures on chalcogenide glass by laser beam recorder of master discs
за авторством: V. V. Petrov, та інші
Опубліковано: (2020)

Direct laser writing of microrelief structures on chalcogenide glass by laser beam recorder of master discs
за авторством: Petrov, V. V., та інші
Опубліковано: (2020)

Chemical etching of CdTe, CdₓHg₁-ₓTe, ZnₓCd₁-ₓTe and Te in the HNO₃-HCl-citric acid
за авторством: Tomashik, Z.F., та інші
Опубліковано: (2005)

Investigations of surface morphology and chemical composition of Ag/ZnS/glassceramic thin-film structure
за авторством: Kurbatov, D., та інші
Опубліковано: (2008)

High-density data recording via laser thermo-lithography and ion-beam etching
за авторством: Gorbov, I.V., та інші
Опубліковано: (2014)

Formation of thin film Cr-N composites under ion bombardment at low rates of chromium deposition
за авторством: Guglya, A., та інші
Опубліковано: (2006)

Formation of thin film Cr-N composites under ion bombardment at low rates of chromium deposition
за авторством: Guglya, A., та інші
Опубліковано: (2006)

Surface microrelief obtained by composed target deposition for LC molecules alignment
за авторством: Kolomzarov, Yu., та інші
Опубліковано: (2006)

Au/GaAs photovoltaic structures with single-wall carbon nanotubes on the microrelief interface
за авторством: Dmitruk, N.L., та інші
Опубліковано: (2015)