Зображення обкладинки

Low-Temperature Synthesis and Structure of Hybrid Ni@C Nanomaterials Fabricated by Method of Reactive Magnetron Sputtering

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2015
Автори:	M. I. Mokhnenko, V. N. Varjukhin, A. M. Prudnikov, R. V. Shalaev
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	2015
Назва видання:	Metallophysics and advanced technologies
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000551434
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)

Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)

Fabrication of nanosize LiPON films by means of high-frequency magnetron sputtering
за авторством: O. I. Vjunov, та інші
Опубліковано: (2014)

Carbon role in formation of the nanostructure and the magnetic properties of the hybrid Ni–C films
за авторством: A. M. Prudnikov, та інші
Опубліковано: (2016)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)

Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)

Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)

Comparison of optical properties of TiO₂ thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: Brus, V.V., та інші
Опубліковано: (2011)

Comparison of optical properties of TiO2 thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: V. V. Brus, та інші
Опубліковано: (2011)

Solid ion accelerator based on magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)

Formation of antibacterial coatings on chitosan matrices by magnetron sputtering
за авторством: O. V. Kalinkevich, та інші
Опубліковано: (2017)

Influence of nitrogen on the microstructure, hardness and tribological properties of Cr–Ni–B–C–N films deposited by DC magnetron sputtering
за авторством: O. O. Onopriienko, та інші
Опубліковано: (2020)

Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: simulation of chemical composition
за авторством: A. Rahmati, та інші
Опубліковано: (2012)

Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: simulation of chemical composition
за авторством: A. Rahmati, та інші
Опубліковано: (2012)

Ion-plasma system for reactive magnetron deposition
за авторством: S. D. Yakovin, та інші
Опубліковано: (2014)

Structure of Fe-Cu coatings prepared by the magnetron sputtering method
за авторством: Nowakowska-Langier, K., та інші
Опубліковано: (2010)

Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)

Properties of coatings of the Al–Cr–Fe–Co–Ni–Cu–V high entropy alloy produced by the magnetron sputtering
за авторством: L. R. Shaginjan, та інші
Опубліковано: (2016)

The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)

The Vacuub Device for Receiving Coatings on the Inner Surface of the Pipes by Magnetron Sputtering
за авторством: V. M. Kolomiiets, та інші
Опубліковано: (2020)

Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011)

Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Magnetron sputtered coatings of AlN-TiCrB₂ system
за авторством: Panasyuk, A.D., та інші
Опубліковано: (2009)

Magnetron sputtering of high temperature composite ceramics AlN-TiB2-TiSi2
за авторством: I. N. Torianik, та інші
Опубліковано: (2013)

Gas-Phase Synthesis of Film Structures of Ni—N System
за авторством: R. V. Shalaev
Опубліковано: (2015)

Experimental investigation and computer simulation of the magnetron sputtering device with two erosion zones
за авторством: Bogdanov, R.V., та інші
Опубліковано: (2013)

The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)

Phase composition, structure and stress state of magnetron sputtered W-Ti condensates
за авторством: Sobol`, O.V.
Опубліковано: (2006)

Carbon based hybrid nanomaterials: overview and challenges ahead
за авторством: Yu. Semchuk, та інші
Опубліковано: (2022)

Effect of the nitrogen flow on the properties of Si–C–N amorphous thin films produced by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)

The influence of the magnetron sputtering regime and the composition of the reaction gas on the structure and properties of ITO films
за авторством: A. I. Bazhin, та інші
Опубліковано: (2012)

Influence of parameters of magnetron sputtering process on phase composition and structure of carbon nitride coatings
за авторством: Yu. S. Borysov, та інші
Опубліковано: (2022)

Features of coatings deposition in combined stationary-pulsed operation mode of the magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2017)

Control of planar magnetron sputtering system operating modes by additional anode magnetic field
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2010)

Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2015)

The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method
за авторством: A. I. Ievtushenko, та інші
Опубліковано: (2017)

Structural studies of zinc oxide and aluminum nitride films obtained by CVD and magnetron sputtering methods
за авторством: A. D. Pogrebnjak, та інші
Опубліковано: (2012)