Structure and optical properties of AlN films obtained using the cathodic arc plasma deposition technique
Збережено в:
| Дата: | 2015 |
|---|---|
| Автори: | A. P. Shapovalov, I. V. Korotash, E. M. Rudenko, F. F. Sizov, D. S. Dubyna, L. S. Osipov, Yu. Polotskiy, Z. F. Tsybrii, A. A. Korchovyi |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2015
|
| Назва видання: | Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000706494 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Structure and optical properties of AlN films obtained using the cathodic arc plasma deposition technique
за авторством: Shapovalov, A.P., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Shapovalov, A.P., та інші
Опубліковано: (2015)
Formation of Nanostructured Relief of TiN—Fe Heterostructures in Hybrid Helicon-Arc Plasma Reactor
за авторством: E. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: E. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2015)
Investigation of stability of arc of plasmatron with a deepened cathode
за авторством: V. A. Shapovalov, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: V. A. Shapovalov, та інші
Опубліковано: (2013)
Effect of arc current on mechanical properties of AlCrN coatings deposited using cathodic arc evaporation
за авторством: Warcholinski, B., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Warcholinski, B., та інші
Опубліковано: (2022)
Formation of Nanostructured Relief of TiN—Fe Heterostructures in Hybrid Helicon-Arc Plasma Reactor
за авторством: Rudenko, E.M., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Rudenko, E.M., та інші
Опубліковано: (2015)
Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)
Modeling of electric arc with refractory cathode and evaporating anode
за авторством: I. V. Krikent, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: I. V. Krikent, та інші
Опубліковано: (2014)
Modeling of dynamic characteristics of pulsed arc with refractory cathode
за авторством: I. V. Krivtsun, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: I. V. Krivtsun, та інші
Опубліковано: (2013)
Optical properties of silicon carbide obtained by direct ion deposition
за авторством: Lopin, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Lopin, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Modelling of Conditions of Existence of the Emitter of a Refractory Material During Cathodic Vacuum—Arc Deposition
за авторством: V. D. Alimov, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: V. D. Alimov, та інші
Опубліковано: (2014)
Polishing of AlN/sapphire substrates obtained by thermochemical nitridation of sapphire
за авторством: Vovk, E.A., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Vovk, E.A., та інші
Опубліковано: (2013)
The use of powder cathodes for the deposition of Ti-Si-N coatings from a filtered vacuum arc plasma
за авторством: V. V. Vasilev, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: V. V. Vasilev, та інші
Опубліковано: (2015)
Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2018)
Structure and properties of FeCr, CrAl and FeCrAl coatings deposited by cathodic arc evaporation
за авторством: Vasilenko, R.L., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Vasilenko, R.L., та інші
Опубліковано: (2021)
The model of the formation of a layered structure of coatings obtained by vacuum arc deposition
за авторством: Ju. V. Kunchenko, та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Ju. V. Kunchenko, та інші
Опубліковано: (2005)
Vacuum-arc plasma source with steered cathode spot
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2008)
Propagation of ion plasma flow of cathodic arc disharge in hollow cathode (study and the first results)
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2016)
Numerical analysis of characteristics of plasma of compressed and freely-burning arc with refractory cathode
за авторством: I. V. Krivtsun, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: I. V. Krivtsun, та інші
Опубліковано: (2016)
Modernization of optical microscope and its use to obtain digital images of microstructure of deposited metal
за авторством: A. A. Babinets, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: A. A. Babinets, та інші
Опубліковано: (2020)
Coatings obtained by deposition of refractory compounds from flows of vacuum-arc metallical plasma
за авторством: V. M. Beresnev, та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: V. M. Beresnev, та інші
Опубліковано: (2003)
Electrodeposition of tungsten fro mionicmelt: different types of structures of cathode deposits
за авторством: V. V. Malyshev, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: V. V. Malyshev, та інші
Опубліковано: (2016)
I. Cathodic erosion and the cathodic mass losses in steady-state low-pressure arc discharge
за авторством: V. M. Khoroshikh
Опубліковано: (2004)
за авторством: V. M. Khoroshikh
Опубліковано: (2004)
Deposition of superhard vacuum-arc TiN coatings
за авторством: A. A. Andreev, та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: A. A. Andreev, та інші
Опубліковано: (2006)
Corrosion durability of nanostructured TiAlYN coatings, deposited by PIII&D method from filtered vacuum-arc cathodic plasma
за авторством: Vasyliev, V.V., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Vasyliev, V.V., та інші
Опубліковано: (2015)
Modelling of processes of heat, mass and power transfer in arc column and anode zone with refractory cathode
за авторством: I. V. Krikent, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: I. V. Krikent, та інші
Опубліковано: (2012)
High-productive source of the cathodic vacuum-arc plasma with the rectilinear filter
за авторством: Vasylyev, V.V., та інші
Опубліковано: (2013-10-23)
за авторством: Vasylyev, V.V., та інші
Опубліковано: (2013-10-23)
Multi-element coatings (Zr-Ti-Al-Nb-Y)N, obtained by vacuum arc deposition
за авторством: I. N. Torjanik, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: I. N. Torjanik, та інші
Опубліковано: (2013)
CdS films on the porous substruction of Si obtained by chemical surface deposition
за авторством: A. F. Diadenchuk, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: A. F. Diadenchuk, та інші
Опубліковано: (2018)
Characteristics of high-frequency pulsed current arc with refractory cathode
за авторством: I. Krivtsun, та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: I. Krivtsun, та інші
Опубліковано: (2022)
Model of processes of heat-, mass- and electrical transfer in anode region and welding arc column with refractory cathode
за авторством: I. V. Krivtsun, та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: I. V. Krivtsun, та інші
Опубліковано: (2010)
Optical properties of ZnS:Ni crystals obtained by diffusion doping
за авторством: Vaksman, Yu.F., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Vaksman, Yu.F., та інші
Опубліковано: (2010)
About efficiency of vacuum-arc plasma sources with separation of drop-phase cathode erosion
за авторством: V. M. Khoroshikh, та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: V. M. Khoroshikh, та інші
Опубліковано: (2009)
II. The droplet phase of cathode erosion in steady-state vacuum arc
за авторством: V. M. Khoroshikh
Опубліковано: (2004)
за авторством: V. M. Khoroshikh
Опубліковано: (2004)
Nanoscale multi-layer coating fabricated by a cathodic arc evaporation
за авторством: G. Fagani, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: G. Fagani, та інші
Опубліковано: (2020)
Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)
Calculated and experimental investigation of static and dynamic volt-ampere characteristics of argon arc with a refractory cathode
за авторством: V. N. Sidorets, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: V. N. Sidorets, та інші
Опубліковано: (2016)
Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)
Optical Techniques of Calibration and Alignment of Radiotelescope Sections
за авторством: Vasilchuk, B. V., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Vasilchuk, B. V., та інші
Опубліковано: (2013)
Structural, electrical and optical investigations of Cu₆PS₅Br-based thin film deposited by HiTUS technique
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2016)
Optimization techniques to obtain the best combination of alloy strength and toughness
за авторством: G. M. Zrazhevskij, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: G. M. Zrazhevskij, та інші
Опубліковано: (2016)
Схожі ресурси
-
Structure and optical properties of AlN films obtained using the cathodic arc plasma deposition technique
за авторством: Shapovalov, A.P., та інші
Опубліковано: (2015) -
Formation of Nanostructured Relief of TiN—Fe Heterostructures in Hybrid Helicon-Arc Plasma Reactor
за авторством: E. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2015) -
Investigation of stability of arc of plasmatron with a deepened cathode
за авторством: V. A. Shapovalov, та інші
Опубліковано: (2013) -
Effect of arc current on mechanical properties of AlCrN coatings deposited using cathodic arc evaporation
за авторством: Warcholinski, B., та інші
Опубліковано: (2022) -
Formation of Nanostructured Relief of TiN—Fe Heterostructures in Hybrid Helicon-Arc Plasma Reactor
за авторством: Rudenko, E.M., та інші
Опубліковано: (2015)