Structure and optical properties of AlN films obtained using the cathodic arc plasma deposition technique
Збережено в:
Дата: | 2015 |
---|---|
Автори: | A. P. Shapovalov, I. V. Korotash, E. M. Rudenko, F. F. Sizov, D. S. Dubyna, L. S. Osipov, Yu. Polotskiy, Z. F. Tsybrii, A. A. Korchovyi |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2015
|
Назва видання: | Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000706494 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Structure and optical properties of AlN films obtained using the cathodic arc plasma deposition technique
за авторством: Shapovalov, A.P., та інші
Опубліковано: (2015) -
Structure and optical properties of AlN films obtained using the cathodic arc plasma deposition technique
за авторством: Shapovalov, A.P., та інші
Опубліковано: (2015) -
Ultra high vacuum cathodic arc for deposition of superconducting lead photo-cathodes
за авторством: Strzyzewski, P., та інші
Опубліковано: (2007) -
Formation of Nanostructured Relief of TiN—Fe Heterostructures in Hybrid Helicon-Arc Plasma Reactor
за авторством: E. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2015) -
Effect of arc current on mechanical properties of AlCrN coatings deposited using cathodic arc evaporation
за авторством: Warcholinski, B., та інші
Опубліковано: (2022)