Variation of optical parameters of multilayer structures with thin silicon layers at laser annealing
Gespeichert in:
| Datum: | 2014 |
|---|---|
| 1. Verfasser: | O. B. Okhrimenko |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
2014
|
| Schriftenreihe: | Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics |
| Online Zugang: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000352790 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Institution
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASÄhnliche Einträge
-
Variation of optical parameters of multilayer structures with thin silicon layers at laser annealing
von: Okhrimenko, O.B.
Veröffentlicht: (2014) -
Optical properties of thin erbium oxide films formed by rapid thermal annealing on SiC substrates with different structures
von: Yu. Yu. Bacherikov, et al.
Veröffentlicht: (2017) -
Structural transformation in C/Si multilayer after annealing
von: I. O. Zhuravel, et al.
Veröffentlicht: (2012) -
Structural transformation in C/Si multilayer after annealing
von: Zhuravel, I.O., et al.
Veröffentlicht: (2012) -
Optical studies of as-deposited and annealed Cu₇GeS₅I thin films
von: Studenyak, I.P., et al.
Veröffentlicht: (2016)