Structural and optical properties of Zn1-xCoxO thin films prepared by RF reactive sputtering technique
Збережено в:
| Дата: | 2014 |
|---|---|
| Автори: | A. I. Savchuk, I. D. Stolyarchuk, I. Stefanuk, B. Cieniek, E. Sheregii |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2014
|
| Назва видання: | Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000353045 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Structural and optical properties of Zn₁₋xCoxO thin films prepared by RF reactive sputtering technique
за авторством: Savchuk, A.I., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Savchuk, A.I., та інші
Опубліковано: (2014)
Comparison of optical properties of TiO₂ thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: Brus, V.V., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Brus, V.V., та інші
Опубліковано: (2011)
Comparison of optical properties of TiO2 thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: V. V. Brus, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: V. V. Brus, та інші
Опубліковано: (2011)
Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
Phonon Raman scattering in LaMn₁₋xCoxO₃ (x = 0, 0.2, 0.3, 0.4, and 1.0)
за авторством: Gnezdilov, V.P., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Gnezdilov, V.P., та інші
Опубліковано: (2003)
Structure and fluorescence of ZnWO₄ films prepared by ion beam sputtering
за авторством: Dubovik, A., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Dubovik, A., та інші
Опубліковано: (2012)
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)
Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)
Influence of laser energy on the optical properties of Ag2S ITO thin films prepared by the PLD technique
за авторством: L. A. Hamid, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: L. A. Hamid, та інші
Опубліковано: (2020)
Influence of laser energy on the optical properties of Ag2S ITO thin films prepared by the PLD technique
за авторством: L. A. Hamid, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: L. A. Hamid, та інші
Опубліковано: (2020)
Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)
Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)
Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)
Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
за авторством: N. A. Vasilenko, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: N. A. Vasilenko, та інші
Опубліковано: (2013)
Effect of sputtering power on optical properties of nickel oxide electrochromic thin films
за авторством: P. Panprom, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: P. Panprom, та інші
Опубліковано: (2020)
Effect of sputtering power on optical properties of nickel oxide electrochromic thin films
за авторством: P. Panprom, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: P. Panprom, та інші
Опубліковано: (2020)
Pulsed plasmachemistry of COx, NOx, SOx
за авторством: Berezina, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Berezina, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)
Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)
Structure of Fe-Cu coatings prepared by the magnetron sputtering method
за авторством: Nowakowska-Langier, K., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Nowakowska-Langier, K., та інші
Опубліковано: (2010)
An original way to obtain porous Zn₍₁₋ₓ₎MgₓO thin films by spray pyrolysis technique
за авторством: Abdelhakim Mahdjoub, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Abdelhakim Mahdjoub, та інші
Опубліковано: (2017)
Structural and optical studies of Cu₆PSe₅I-based thin film deposited by magnetron sputtering
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2017)
Low-Temperature Synthesis and Structure of Hybrid Ni@C Nanomaterials Fabricated by Method of Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: M. I. Mokhnenko, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: M. I. Mokhnenko, та інші
Опубліковано: (2015)
Investigation of parameters of the working substance - low temperature plasma in the ionization resonator chamber of the RF reactive engine
за авторством: Vdovin, V.S., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Vdovin, V.S., та інші
Опубліковано: (2003)
Electrical and optical parameters of Cu₆PS₅I-based thin films deposited using magnetron sputtering
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2016)
The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method
за авторством: A. I. Ievtushenko, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: A. I. Ievtushenko, та інші
Опубліковано: (2017)
The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method
за авторством: Ievtushenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Ievtushenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2017)
Structural and optical studies of Cu6PSe5I-based thin film deposited by magnetron sputtering
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2017)
Preparation of terbium monosulfide thin crystalline film
за авторством: Tabatadze, I.G., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Tabatadze, I.G., та інші
Опубліковано: (2010)
Preparation of terbium monosulfide thin crystalline film
за авторством: I. G. Tabatadze, та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: I. G. Tabatadze, та інші
Опубліковано: (2010)
Infrared heaters with thin-film conductive layers were synthesized on the glass by the magnetron sputtering
за авторством: Lytvynenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Lytvynenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2017)
Structural, optical, and electrical properties of ZnO:Al prepared by CVD
за авторством: A. D. Pogrebnyak, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: A. D. Pogrebnyak, та інші
Опубліковано: (2011)
Structural, optical, and electrical properties of ZnO: al prepared by CVD
за авторством: Pogrebnyak, A.D., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Pogrebnyak, A.D., та інші
Опубліковано: (2011)
Electrical and optical parameters of Cu6PS5I-based thin films deposited using magnetron sputtering
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2016)
Comparative studies of optical absorption, photoluminescence and EPR spectra of PbMnI₂ bulk layers and nanocrystals
за авторством: Savchuk, A.I., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Savchuk, A.I., та інші
Опубліковано: (2014)
Comparative studies of optical absorption, photoluminescence and EPR spectra of PbMnI2 bulk layers and nanocrystals
за авторством: A. I. Savchuk, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: A. I. Savchuk, та інші
Опубліковано: (2014)
A generalization of the model of Cox-Ross-Rubinstein and corresponding continuous analogue
за авторством: I. V. Malyk, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: I. V. Malyk, та інші
Опубліковано: (2013)
ZnO:Al wide zone “windows” deposited by magnetron sputtering on unheated substrate
за авторством: Boyko, B.Т., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Boyko, B.Т., та інші
Опубліковано: (2000)
Effect of electron irradiation on transparent conductive films ZnO:Al deposited at different power sputtering
за авторством: D. V. Myroniuk, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: D. V. Myroniuk, та інші
Опубліковано: (2015)
Схожі ресурси
-
Structural and optical properties of Zn₁₋xCoxO thin films prepared by RF reactive sputtering technique
за авторством: Savchuk, A.I., та інші
Опубліковано: (2014) -
Comparison of optical properties of TiO₂ thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: Brus, V.V., та інші
Опубліковано: (2011) -
Comparison of optical properties of TiO2 thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: V. V. Brus, та інші
Опубліковано: (2011) -
Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005) -
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)