Modelling of Conditions of Existence of the Emitter of a Refractory Material During Cathodic Vacuum—Arc Deposition
Збережено в:
Дата: | 2014 |
---|---|
Автори: | V. D. Alimov, A. V. Nedolja, I. N. Titov |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2014
|
Назва видання: | Metallophysics and advanced technologies |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000550416 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Temperature distribution on a cathode emitter during the formation of a high-frequency vacuum
за авторством: A. V. Nedolja, та інші
Опубліковано: (2009) -
Modeling of dynamic characteristics of pulsed arc with refractory cathode
за авторством: I. V. Krivtsun, та інші
Опубліковано: (2013) -
Modeling of electric arc with refractory cathode and evaporating anode
за авторством: I. V. Krikent, та інші
Опубліковано: (2014) -
Ultra high vacuum cathodic arc for deposition of superconducting lead photo-cathodes
за авторством: Strzyzewski, P., та інші
Опубліковано: (2007) -
Coatings obtained by deposition of refractory compounds from flows of vacuum-arc metallical plasma
за авторством: V. M. Beresnev, та інші
Опубліковано: (2003)