Gavrylyuk, O. O., Semchuk, Y., Steblova, O. V., Evtukh, A. A., & Fedorenko, L. L. (2014). Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealing.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Gavrylyuk, O. O., Yu Semchuk, O. V. Steblova, A. A. Evtukh, та L. L. Fedorenko. Study of the Distribution of Temperature Profiles in Nonstoichiometric SiOx Films at Laser Annealing. 2014.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Gavrylyuk, O. O., et al. Study of the Distribution of Temperature Profiles in Nonstoichiometric SiOx Films at Laser Annealing. 2014.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.