Gavrylyuk, O. O., Semchuk, Y., Steblova, O. V., Evtukh, A. A., & Fedorenko, L. L. (2014). Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealing.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Gavrylyuk, O. O., Yu Semchuk, O. V. Steblova, A. A. Evtukh, und L. L. Fedorenko. Study of the Distribution of Temperature Profiles in Nonstoichiometric SiOx Films at Laser Annealing. 2014.
MLA-Zitierstil (8. Ausg.)Gavrylyuk, O. O., et al. Study of the Distribution of Temperature Profiles in Nonstoichiometric SiOx Films at Laser Annealing. 2014.
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