Ion-plasma system for reactive magnetron deposition
Збережено в:
| Дата: | 2014 |
|---|---|
| Автори: | S. D. Yakovin, O. V. Zykov, S. V. Dudin, V. I. Farenik, M. M. Yunakov |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
2014
|
| Назва видання: | Physical surface engineering |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001030980 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021) -
Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017) -
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016) -
Discharge characteristics of combined low energy ion source – magnetron sputtering system
за авторством: Zykov, A., та інші
Опубліковано: (2020) -
Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)