Зображення обкладинки

Ion-plasma system for reactive magnetron deposition

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2014
Автори:	S. D. Yakovin, O. V. Zykov, S. V. Dudin, V. I. Farenik, M. M. Yunakov
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	2014
Назва видання:	Physical surface engineering
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001030980
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси

Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)

Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)

Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)

Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2015)

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)

Synthesis of dielectric compounds based on a DC magnetron
за авторством: O. V. Zykov, та інші
Опубліковано: (2009)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)

Comparative analysis of different plasma sources for reactive deposition of coatings and diffusion saturation of metals
за авторством: A. V. Sagalovich, та інші
Опубліковано: (2014)

Research and development of technological systems based on high-frequency induction discharge for reactive ion-plasma etching of micro- and nanostructures
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2009)

Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2019)

Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)

Stationary regimes of low pressure magnetron discharge
за авторством: A. V. Zykov, та інші
Опубліковано: (2015)

The Langmuir probe modeling in ion-beam plasma
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)

Technological aprobation of integral cluster setup for complex compound composites syntesis
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2012)

Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)

Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)

Langmuir probe in ion-beam plasma: theory VS experiment
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2012)

Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)

Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Langmuir probe in ion-beam plasma: theory VS experiment
за авторством: Dudin, S.V.
Опубліковано: (2012)

Radio frequency plasma reactive engine
за авторством: Zajtzev, B.V., та інші
Опубліковано: (2000)

The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)

Ion plasma deposition and optical properties of SiC films
за авторством: Semenov, A.V., та інші
Опубліковано: (2005)

Low-Temperature Synthesis and Structure of Hybrid Ni@C Nanomaterials Fabricated by Method of Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: M. I. Mokhnenko, та інші
Опубліковано: (2015)

The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method
за авторством: A. I. Ievtushenko, та інші
Опубліковано: (2017)

Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)

The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method
за авторством: Ievtushenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2017)

Characteristics of discharge in crossed ЕxН fields near breakdown curve in acceleration and plasma regime
за авторством: Jamirzoev, A., та інші
Опубліковано: (2013)

Gas magnetron deposition of structured TiO₂ nanofilms
за авторством: Dobrovolskiy, A.M., та інші
Опубліковано: (2013)

Solid ion accelerator based on magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)

Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)

Ion–plasma deposition of the nanostructured multicom-ponent coatings on thermolabile materials
за авторством: L. S. Osipov, та інші
Опубліковано: (2014)

Comparison of optical properties of TiO₂ thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: Brus, V.V., та інші
Опубліковано: (2011)

The effect of nitrogen pressure during vacuum-arc TiN coatings deposition on the erosoin resistance in plasma of magnetron type discharges
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2014)

Features of coatings deposition in combined stationary-pulsed operation mode of the magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2017)

Formation of multicomponent multilayer heat-resistant coatings on turbine blades With ion magnetron
за авторством: V. V. Kolesnik, та інші
Опубліковано: (2003)

Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)