Buchumschlag

Ion-plasma system for reactive magnetron deposition

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Datum:	2014
Hauptverfasser:	S. D. Yakovin, O. V. Zykov, S. V. Dudin, V. I. Farenik, M. M. Yunakov
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	2014
Schriftenreihe:	Physical surface engineering
Online Zugang:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001030980
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Institution

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Ähnliche Einträge

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
von: Walkowicz, J., et al.
Veröffentlicht: (2007)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
von: Walkowicz, J., et al.
Veröffentlicht: (2007)

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
von: S. V. Dudin, et al.
Veröffentlicht: (2005)

Synthesis of dielectric compounds based on a DC magnetron
von: O. V. Zykov, et al.
Veröffentlicht: (2009)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
von: A. Sagalovych, et al.
Veröffentlicht: (2012)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
von: Sagalovych, A., et al.
Veröffentlicht: (2012)

Comparative analysis of different plasma sources for reactive deposition of coatings and diffusion saturation of metals
von: A. V. Sagalovich, et al.
Veröffentlicht: (2014)

Research and development of technological systems based on high-frequency induction discharge for reactive ion-plasma etching of micro- and nanostructures
von: S. V. Dudin
Veröffentlicht: (2009)

Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
von: A. A. Goncharov, et al.
Veröffentlicht: (2014)

Stationary regimes of low pressure magnetron discharge
von: A. V. Zykov, et al.
Veröffentlicht: (2015)

The Langmuir probe modeling in ion-beam plasma
von: Antonova, T.N., et al.
Veröffentlicht: (2003)

Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
von: Dudin, S.V., et al.
Veröffentlicht: (2006)

Langmuir probe in ion-beam plasma: theory VS experiment
von: S. V. Dudin
Veröffentlicht: (2012)

The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
von: Safonov, V., et al.
Veröffentlicht: (2019)

Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
von: Afanasіeva, I.A., et al.
Veröffentlicht: (2019)

Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
von: A. A. Onoprienko, et al.
Veröffentlicht: (2019)

Langmuir probe in ion-beam plasma: theory VS experiment
von: Dudin, S.V.
Veröffentlicht: (2012)

Solid ion accelerator based on magnetron sputtering discharge
von: Azarenkov, N.A., et al.
Veröffentlicht: (2004)

Ion plasma deposition and optical properties of SiC films
von: Semenov, A.V., et al.
Veröffentlicht: (2005)

Low-Temperature Synthesis and Structure of Hybrid Ni@C Nanomaterials Fabricated by Method of Reactive Magnetron Sputtering
von: M. I. Mokhnenko, et al.
Veröffentlicht: (2015)

Gas magnetron deposition of structured TiO₂ nanofilms
von: Dobrovolskiy, A.M., et al.
Veröffentlicht: (2013)

Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
von: A. O. Kozak, et al.
Veröffentlicht: (2020)

Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
von: Zayats, M.S., et al.
Veröffentlicht: (2010)

Ion–plasma deposition of the nanostructured multicom-ponent coatings on thermolabile materials
von: L. S. Osipov, et al.
Veröffentlicht: (2014)

The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method
von: A. I. Ievtushenko, et al.
Veröffentlicht: (2017)

Formation of multicomponent multilayer heat-resistant coatings on turbine blades With ion magnetron
von: V. V. Kolesnik, et al.
Veröffentlicht: (2003)

Comparison of optical properties of TiO₂ thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
von: Brus, V.V., et al.
Veröffentlicht: (2011)

Features of coatings deposition in combined stationary-pulsed operation mode of the magnetron sputtering system
von: Chunadra, А.G., et al.
Veröffentlicht: (2017)

Comparison of optical properties of TiO2 thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
von: V. V. Brus, et al.
Veröffentlicht: (2011)

Development of additional magnetron discharge in the drift region of an ion source with closed electron drift
von: Bordenjuk, I.V., et al.
Veröffentlicht: (2008)

Development of technology for obtaining nano-sized heterostructured films by ion-plasma deposition
von: M. T. Normuradov, et al.
Veröffentlicht: (2023)

Low-temperature ion-plasma deposition technology of nanostructured films of aluminum and boron nitrides
von: M. S. Zaiats, et al.
Veröffentlicht: (2021)

Reactive ion-beam synthesis of thin films directly from ion biam
von: K. A. Valiev, et al.
Veröffentlicht: (2003)

Automatic frequency control system of a pulsed magnetron
von: I. P. Bezgina, et al.
Veröffentlicht: (2019)

Ion source of reactive gases with decreased neutral gas inleakage
von: Lymar, A.G., et al.
Veröffentlicht: (2005)

Low Energy-intensive plasma systems with discharges in combined electric and magnetic fields
von: V. I. Farenik
Veröffentlicht: (2009)

Reactivity of metallothioneins in frog Rana ridibunda treated by copper and zinc ions
von: H. I. Falfushynska, et al.
Veröffentlicht: (2010)

Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
von: V. I. Popovych, et al.
Veröffentlicht: (2016)

Development of a technology for the production of nano-sized heterostructured films by ion-plasma deposition
von: M. T. Normuradov, et al.
Veröffentlicht: (2023)

Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering
von: V. I. Popovych, et al.
Veröffentlicht: (2016)