Modification of radiation defects in Si and Ge by background impurity
Збережено в:
| Дата: | 2013 |
|---|---|
| Автор: | A. P. Dolgolenko |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
2013
|
| Назва видання: | Nuclear physics and atomic energy |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000331958 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Peculiariries of thermoannealing in n-Si and n-Ge crystals with oxygen impurity
за авторством: P. I. Baranskii, та інші
Опубліковано: (2012) -
Peculiarities of thermoannealing in n-Si and n-Ge crystals with oxygen impurity
за авторством: Baranskii, P.I., та інші
Опубліковано: (2012) -
Radiation-induced defect's clustering and self-organization during surface modification
за авторством: Bondareva, A.L., та інші
Опубліковано: (2006) -
Observation of parametric X-ray radiation excited by 50 GeV protons and identification of background radiation origin
за авторством: Afonin, A.G., та інші
Опубліковано: (2013) -
The annealing of high - level doped materials on the base of the n – and p – Si₀.₇ Ge₀.₃ solid solution under reactor irradiation
за авторством: Dolgolenko, A.P.
Опубліковано: (2006)