Yasunas, A., Kotov, D., Shiripov, V., & Radzionay, U. (2013). Low-temperature deposition of silicon dioxide films in high-density plasma.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Yasunas, A., D. Kotov, V. Shiripov, und U. Radzionay. Low-temperature Deposition of Silicon Dioxide Films in High-density Plasma. 2013.
MLA-Zitierstil (8. Ausg.)Yasunas, A., et al. Low-temperature Deposition of Silicon Dioxide Films in High-density Plasma. 2013.
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