Зображення обкладинки

Low-temperature deposition of silicon dioxide films in high-density plasma

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2013
Автори:	A. Yasunas, D. Kotov, V. Shiripov, U. Radzionay
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	2013
Назва видання:	Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000351896
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси

Low-temperature deposition of silicon dioxide films in high-density plasma
за авторством: Yasunas, A., та інші
Опубліковано: (2013)

Low-temperature ion-plasma deposition technology of nanostructured films of aluminum and boron nitrides
за авторством: M. S. Zaiats, та інші
Опубліковано: (2021)

The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)

Transitions from low-density state towards high-density state in stochastic bistable plasma-condensate systems
за авторством: Dvornichenko, A.V., та інші
Опубліковано: (2018)

Refractive indices and density of cryovacuum-deposited thin films of methane in the vicinity of the α–β-transition temperature
за авторством: A. Drobyshev, та інші
Опубліковано: (2017)

Refractive indices and density of cryovacuum-deposited thin films of methane in the vicinity of the α–β-transition temperature
за авторством: Drobyshev, A., та інші
Опубліковано: (2017)

Optical properties of submicron silicon oxide films after high-temperature processing
за авторством: V. V. Litvinenko, та інші
Опубліковано: (2011)

Prospects for the Use of Carbon Dioxide in Low-Temperature Devices for Cryogenic Technologies
за авторством: V. A. Potapov, та інші
Опубліковано: (2018)

Friction-wear behaviors of chemical vapor deposited diamond films at high temperatures
за авторством: D. Kong, та інші
Опубліковано: (2019)

Impedance disturbance of the inductive coil interacting with low density plasma
за авторством: D. V. Rafalskij, та інші
Опубліковано: (2008)

Stimulation of the diamond nucleation on silicon substrates with a layer of polymeric precursor in deposition of diamond films by microwave plasma
за авторством: V. S. Sedov, та інші
Опубліковано: (2012)

Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)

Spectroscopy of fullerene-like molecules of silicon dioxide
за авторством: O. V. Filonenko, та інші
Опубліковано: (2013)

Heteronanopraticles of silicon dioxide with shell of Pt nanocrystals
за авторством: Matveevskaya, N.A., та інші
Опубліковано: (2008)

Synthesis of hollow silicon/titanium dioxide nanospheres
за авторством: P. P. Horbyk, та інші
Опубліковано: (2011)

Application of arc plasma for a deposition of superconducting films
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)

Influence of high temperature annealing on the structure and the intrinsic absorption edge of thin-film silicon doped with tin
за авторством: R. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2013)

Influence of high temperature annealing on the structure and the intrinsic absorption edge of thin-film silicon doped with tin
за авторством: R. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2013)

EA density functional study of the adsorption of carbon dioxide molecule on graphene
за авторством: D. P. Thakur, та інші
Опубліковано: (2013)

EA density functional study of the adsorption of carbon dioxide molecule on graphene
за авторством: D. P. Thakur, та інші
Опубліковано: (2013)

Hot electrons in metal films at low temperatures
за авторством: V. A. Shklovskij
Опубліковано: (2018)

Electrical and light-emitting properties of silicon dioxide co-implanted by carbon and silicon ions
за авторством: Nazarov, A.N., та інші
Опубліковано: (2008)

High-temperature quantum kinetic effect in silicon nanosandwiches
за авторством: N. T. Bagraev, та інші
Опубліковано: (2017)

Ion plasma deposition and optical properties of SiC films
за авторством: Semenov, A.V., та інші
Опубліковано: (2005)

Features of low-temperature tunneling magnetoresistance of pressed nanopowders of chromium dioxide CrO2
за авторством: Ju. A. Kolesnichenko, та інші
Опубліковано: (2017)

Methods for control the self-sustained plasma-beam discharge at high energy density
за авторством: Hrechko, Ya.O., та інші
Опубліковано: (2019)

Film of titanium dioxide for photo catalysis and medicine
за авторством: V. M. Khoroshikh, та інші
Опубліковано: (2009)

Obtaining colloidal silicon dioxide (Sio2) from quartz
за авторством: L. Y. Shvartsman, та інші
Опубліковано: (2023)

Strain induced effects in p-type silicon whiskers at low temperatures
за авторством: Druzhinin, A.A., та інші
Опубліковано: (2012)

Dynamics of transformation of conduction electrons into charge-density-wave soliton at low temperatures
за авторством: Kovavev, A.S., та інші
Опубліковано: (1996)

Ionization balance in low-temperature plasmas with nanosized dust
за авторством: V. I. Vishnyakov
Опубліковано: (2021)

Ionization balance in low-temperature plasmas with nanosized dust
за авторством: V. I. Vishnyakov
Опубліковано: (2021)

High-temperature creep testing of difficult-to-weld nickel-based superalloy samples with micro-plasma powder deposition
за авторством: O. V. Yarovytsyn, та інші
Опубліковано: (2024)

Low-density urbanism. What is it?
за авторством: T. Vodotyka
Опубліковано: (2018)

Determination of interface state density in high-k dielectric-silicon system from conductance-frequency measurements
за авторством: Yu. V. Gomeniuk
Опубліковано: (2012)

Low-temperature synthesis of platinum nanoheterostructures on silicon and zirconium oxides in organic solvents
за авторством: M. I. Buriak, та інші
Опубліковано: (2011)

Argon-arc welding of high-temperature titanium alloy doped by silicon
за авторством: S. V. Akhonin, та інші
Опубліковано: (2022)

Quantum dimensional effect in an electrical conductivity of films of the copper deposited on a surface of sublayers of silicon and antimony
за авторством: R. I. Bihun, та інші
Опубліковано: (2015)

Spray deposition High-speed steel with low tungsten content
за авторством: O. M. Sydorchuk, та інші
Опубліковано: (2015)

Development of technology for obtaining nano-sized heterostructured films by ion-plasma deposition
за авторством: M. T. Normuradov, та інші
Опубліковано: (2023)