Low-temperature deposition of silicon dioxide films in high-density plasma

Low-temperature deposition of silicon dioxide films in high-density plasma

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2013
Автори:	A. Yasunas, D. Kotov, V. Shiripov, U. Radzionay
Формат:	Стаття
Мова:	English
Опубліковано:	2013
Назва видання:	Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000351896
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Схожі ресурси

Low-temperature deposition of silicon dioxide films in high-density plasma
за авторством: Yasunas, A., та інші
Опубліковано: (2013)

Low-temperature ion-plasma deposition technology of nanostructured films of aluminum and boron nitrides
за авторством: M. S. Zaiats, та інші
Опубліковано: (2021)

Deposition of nanocrystalline silicon films into low frequency induction RF discharge
за авторством: Deryzemlia, A.M., та інші
Опубліковано: (2014)

Conversion of carbon dioxide in low-pressure plasma
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2018)

The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)

Transitions from low-density state towards high-density state in stochastic bistable plasma-condensate systems
за авторством: Dvornichenko, A.V., та інші
Опубліковано: (2018)

Low-temperature thermal conductivity of solid carbon dioxide
за авторством: Sumarokov, V.V., та інші
Опубліковано: (2003)

Plasma treatment of titanium dioxide film for black TiO₂
за авторством: Frolova, E.K., та інші
Опубліковано: (2023)

Refractive indices and density of cryovacuum-deposited thin films of methane in the vicinity of the α–β-transition temperature
за авторством: Drobyshev, A., та інші
Опубліковано: (2017)

Refractive indices and density of cryovacuum-deposited thin films of methane in the vicinity of the α–β-transition temperature
за авторством: A. Drobyshev, та інші
Опубліковано: (2017)

Plasma assisted conversion of carbon dioxide in low-pressure gas discharges
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2019)

Prospects for the Use of Carbon Dioxide in Low-Temperature Devices for Cryogenic Technologies
за авторством: V. A. Potapov, та інші
Опубліковано: (2018)

Optical properties of submicron silicon oxide films after high-temperature processing
за авторством: V. V. Litvinenko, та інші
Опубліковано: (2011)

Friction-wear behaviors of chemical vapor deposited diamond films at high temperatures
за авторством: D. Kong, та інші
Опубліковано: (2019)

Synthesis of silicon dioxide hollow spheres
за авторством: Gorbik, P.P., та інші
Опубліковано: (2009)

Hydrogen reduction of silicon tetrachloride in low temperature non-equilibrium plasma of induction RF discharge
за авторством: Deryzemlia, A.N., та інші
Опубліковано: (2019)

Friction-wear behaviors of chemical vapor deposited diamond films at high temperatures
за авторством: Kong Dejun, та інші
Опубліковано: (2019)

Impedance disturbance of the inductive coil interacting with low density plasma
за авторством: D. V. Rafalskij, та інші
Опубліковано: (2008)

Stimulation of the diamond nucleation on silicon substrates with a layer of polymeric precursor in deposition of diamond films by microwave plasma
за авторством: V. S. Sedov, та інші
Опубліковано: (2012)

Physical mechanisms of microstructure formation in niobium films under low temperature ionic-atomic deposition
за авторством: Marchenko, I.G., та інші
Опубліковано: (2006)

Spectroscopy of fullerene-like molecules of silicon dioxide
за авторством: O. V. Filonenko, та інші
Опубліковано: (2013)

Heteronanopraticles of silicon dioxide with shell of Pt nanocrystals
за авторством: Matveevskaya, N.A., та інші
Опубліковано: (2008)

Synthesis of hollow silicon/titanium dioxide nanospheres
за авторством: P. P. Horbyk, та інші
Опубліковано: (2011)

Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)

Influence of high temperature annealing on the structure and the intrinsic absorption edge of thin-film silicon doped with tin
за авторством: R. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2013)

Influence of high temperature annealing on the structure and the intrinsic absorption edge of thin-film silicon doped with tin
за авторством: R. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2013)

Application of arc plasma for a deposition of superconducting films
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)

Charging processes of metal macroparticles in the low-temperature plasma at presence of high-energy electron beam
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2011)

On the problem of correctness in the stark spectroscopy of high-density plasma streams
за авторством: Chebotarev, V.V., та інші
Опубліковано: (2000)

EA density functional study of the adsorption of carbon dioxide molecule on graphene
за авторством: D. P. Thakur, та інші
Опубліковано: (2013)

EA density functional study of the adsorption of carbon dioxide molecule on graphene
за авторством: D. P. Thakur, та інші
Опубліковано: (2013)

Electrical and light-emitting properties of silicon dioxide co-implanted by carbon and silicon ions
за авторством: Nazarov, A.N., та інші
Опубліковано: (2008)

Hot electrons in metal films at low temperatures
за авторством: V. A. Shklovskij
Опубліковано: (2018)

Features of low-temperature tunneling magnetoresistance of pressed nanopowders of chromium dioxide CrO2
за авторством: Ju. A. Kolesnichenko, та інші
Опубліковано: (2017)

Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)

High-temperature quantum kinetic effect in silicon nanosandwiches
за авторством: Bagraev, N.T., та інші
Опубліковано: (2017)

High-temperature quantum kinetic effect in silicon nanosandwiches
за авторством: N. T. Bagraev, та інші
Опубліковано: (2017)

Obtaining colloidal silicon dioxide (Sio2) from quartz
за авторством: L. Y. Shvartsman, та інші
Опубліковано: (2023)

Film of titanium dioxide for photo catalysis and medicine
за авторством: V. M. Khoroshikh, та інші
Опубліковано: (2009)

Hydrogen plasma treatment of silicon thin-film structures and nanostructured layers
за авторством: Nazarov, A.N., та інші
Опубліковано: (2008)