Tin doping effect on crystallization of amorphous silicon, obtained by vapor deposition in vacuum
Збережено в:
| Дата: | 2013 |
|---|---|
| Автори: | V. B. Neimash, V. M. Poroshin, Ye. Shepeliavyi, V. O. Yukhymchuk, V. V. Melnyk, V. A. Makara, A. G. Kuzmich |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2013
|
| Назва видання: | Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000352346 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Tin doping effect on crystallization of amorphous silicon obtained by vapor deposition in vacuum
за авторством: Neimash, V.B., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Neimash, V.B., та інші
Опубліковано: (2013)
Mechanism of tin-induced crystallization in amorphous silicon
за авторством: V. B. Neimash, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: V. B. Neimash, та інші
Опубліковано: (2014)
Mechanism of tin-induced crystallization in amorphous silicon
за авторством: V. B. Neimash, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: V. B. Neimash, та інші
Опубліковано: (2014)
Raman scattering in the process of tin-induced crystallization of amorphous silicon
за авторством: V. Neimash, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: V. Neimash, та інші
Опубліковано: (2016)
Tin-induced crystallization of amorphous silicon assisted by a pulsed laser irradiation
за авторством: V. B. Neimash, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. B. Neimash, та інші
Опубліковано: (2017)
Tin-induced crystallization of amorphous silicon assisted by a pulsed laser irradiation
за авторством: Neimash, V.B., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Neimash, V.B., та інші
Опубліковано: (2017)
Raman scattering in the process of tin-induced crystallization of amorphous silicon
за авторством: V. B. Neimash, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: V. B. Neimash, та інші
Опубліковано: (2016)
Formation of nanocrystalline silicon in tin-doped amorphous silicon films
за авторством: R. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: R. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2020)
Formation of nanocrystalline silicon in tin-doped amorphous silicon films
за авторством: R. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: R. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2020)
Tin-induced crystallization of amorphous silicon under pulsed laser irradiation
за авторством: V. B. Neimash, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. B. Neimash, та інші
Опубліковано: (2017)
Formation of nanocrystals and their properties during tin induced and laser light stimulated crystallization of amorphous silicon
за авторством: V. B. Neimash, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: V. B. Neimash, та інші
Опубліковано: (2019)
Tin-induced crystallization of amorphous silicon under pulsed laser irradiation
за авторством: V. B. Neimash, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: V. B. Neimash, та інші
Опубліковано: (2017)
Formation of nanocrystals and their properties during tin-induced and laser light-stimulated crystallization of amorphous silicon
за авторством: Neimash, V.B., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Neimash, V.B., та інші
Опубліковано: (2019)
Behavior of hydrogen during crystallization of thin silicon films doped with tin
за авторством: R. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: R. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2013)
Acetone vapor sensors based on tin dioxide doped by Au nanoparticles
за авторством: E. Ovodok, та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: E. Ovodok, та інші
Опубліковано: (2022)
Acetone vapor sensors based on tin dioxide doped by Au nanoparticles
за авторством: E. Ovodok, та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: E. Ovodok, та інші
Опубліковано: (2022)
Behavior of hydrogen during crystallization of thin silicon films doped with tin
за авторством: R. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: R. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2013)
Influence of high temperature annealing on the structure and the intrinsic absorption edge of thin-film silicon doped with tin
за авторством: R. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: R. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2013)
Influence of high temperature annealing on the structure and the intrinsic absorption edge of thin-film silicon doped with tin
за авторством: R. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: R. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2013)
Deposition of superhard vacuum-arc TiN coatings
за авторством: A. A. Andreev, та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: A. A. Andreev, та інші
Опубліковано: (2006)
Nanodimensional discrete coatings of copper oxide on crystals of sodium chloride deposited from vapor phase in vacuum
за авторством: I. S. Kovinskij, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: I. S. Kovinskij, та інші
Опубліковано: (2012)
Obtaining silicon carbide via chemical vapor, plasma-chemical and sublimation methods
за авторством: Zhuravlov, А.Yu., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Zhuravlov, А.Yu., та інші
Опубліковано: (2017)
Influence of the method of depositing vacuum-arc TiN coatings on their gas evolution in vacuum at high temperatures
за авторством: G. P. Glazunov, та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: G. P. Glazunov, та інші
Опубліковано: (2009)
Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor
за авторством: Tseluyko, A.F., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Tseluyko, A.F., та інші
Опубліковано: (2011)
Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)
Optical properties of silicon carbide obtained by direct ion deposition
за авторством: Lopin, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Lopin, A.V., та інші
Опубліковано: (2006)
The model of the formation of a layered structure of coatings obtained by vacuum arc deposition
за авторством: Ju. V. Kunchenko, та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Ju. V. Kunchenko, та інші
Опубліковано: (2005)
Structure of two-phase condensates Cu-NaCl deposited from vapor phase in vacuum
за авторством: Ju. A. Kurapov, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Ju. A. Kurapov, та інші
Опубліковано: (2011)
Obtaining of ZnSe nanocrystals from ZnSe bulk crystals by mechanical milling and chemical vapor deposition in silica matrices
за авторством: Voloshina, L.I., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Voloshina, L.I., та інші
Опубліковано: (2017)
Coatings obtained by deposition of refractory compounds from flows of vacuum-arc metallical plasma
за авторством: V. M. Beresnev, та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: V. M. Beresnev, та інші
Опубліковано: (2003)
Electrochemical oxidation of phenol on doped tin oxide
за авторством: D. V. Kolomytsev
Опубліковано: (2013)
за авторством: D. V. Kolomytsev
Опубліковано: (2013)
Structural features of doped silicon single crystals
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2022)
Comparison of characteristics of vacuum-arc nano-structure TIN coatings deposited under hv pulse substrate bias
за авторством: V. M. Shulaev, та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: V. M. Shulaev, та інші
Опубліковано: (2007)
Deposition of TiN-based coatings using vacuum arc plasma in increased negative substrate bias voltage
за авторством: Kuprin, A.S., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Kuprin, A.S., та інші
Опубліковано: (2019)
Radiative processes of amorphization and hydrogenation in monocrystalline silicon
за авторством: Dovbnya, A.N., та інші
Опубліковано: (2001)
за авторством: Dovbnya, A.N., та інші
Опубліковано: (2001)
Influence of laser radiation and mercury vapors on the structure of se100-xtex amorphous films
за авторством: V. M. Rubish, та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: V. M. Rubish, та інші
Опубліковано: (2022)
Effect of tin on structural transformations in the thin-film silicon suboxide matrix
за авторством: V. V. Voitovych, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: V. V. Voitovych, та інші
Опубліковано: (2016)
Optoelectronic properties of hydrogenated amorphous silicon–carbon and nanocrystalline-silicon thin films
за авторством: B. A. Najafov, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: B. A. Najafov, та інші
Опубліковано: (2013)
Optoelectronic properties of hydrogenated amorphous silicon–carbon and nanocrystalline-silicon thin films
за авторством: B. A. Nadzhafov, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: B. A. Nadzhafov, та інші
Опубліковано: (2013)
Optical properties of ZnS:Ni crystals obtained by diffusion doping
за авторством: Vaksman, Yu.F., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Vaksman, Yu.F., та інші
Опубліковано: (2010)
Схожі ресурси
-
Tin doping effect on crystallization of amorphous silicon obtained by vapor deposition in vacuum
за авторством: Neimash, V.B., та інші
Опубліковано: (2013) -
Mechanism of tin-induced crystallization in amorphous silicon
за авторством: V. B. Neimash, та інші
Опубліковано: (2014) -
Mechanism of tin-induced crystallization in amorphous silicon
за авторством: V. B. Neimash, та інші
Опубліковано: (2014) -
Raman scattering in the process of tin-induced crystallization of amorphous silicon
за авторством: V. Neimash, та інші
Опубліковано: (2016) -
Tin-induced crystallization of amorphous silicon assisted by a pulsed laser irradiation
за авторством: V. B. Neimash, та інші
Опубліковано: (2017)