Bihun, R. I., Buchkovska, M. D., Stasiuk, Z. V., & Leonov, D. S. (2013). Formation of metallic character of electrical conduction in the vacuum condensates of copper deposited on a surface of a sublayer of silicon of subatomic thickness.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Bihun, R. I., M. D. Buchkovska, Z. V. Stasiuk, та D. S. Leonov. Formation of Metallic Character of Electrical Conduction in the Vacuum Condensates of Copper Deposited on a Surface of a Sublayer of Silicon of Subatomic Thickness. 2013.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Bihun, R. I., et al. Formation of Metallic Character of Electrical Conduction in the Vacuum Condensates of Copper Deposited on a Surface of a Sublayer of Silicon of Subatomic Thickness. 2013.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.