Diffusion processes in Ti–Si systems during silicide formation
Збережено в:
Дата: | 2013 |
---|---|
Автори: | S. E. Bogdanov, G. Beddies, M. Daniel, Yu. N. Makogon |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2013
|
Назва видання: | Nanosystems, nanomaterials, nanotechnologies |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000475586 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Diffusion Processes in Ti–Si Systems during Silicide Formation
за авторством: Bogdanov, S.E., та інші
Опубліковано: (2013) -
Multilayer film heterostructures. Silicides
за авторством: Sidorenko, S.I., та інші
Опубліковано: (2009) -
Silicides formation and their influence on the structure and properties in as-cast Ti–18Nb–xSi alloys for biomedical applications
за авторством: O. M. Shevchenko, та інші
Опубліковано: (2019) -
Behavior of silicides of Ti—Zr—Si system and their effect on properties of welded joints of heat-resistant titanium alloys, produced by press welding
за авторством: G. M. Grigorenko, та інші
Опубліковано: (2013) -
Initial stages of diffusion and phase formation in Sc/Si layered systems
за авторством: Voronov, D.L., та інші
Опубліковано: (2008)