Temperature and laser annealing of nonstoichiometric SiOx films

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2013
Автори: O. O. Havryliuk, Yu. Semchuk
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: 2013
Назва видання:Surface
Онлайн доступ:http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000516567
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS
id open-sciencenbuvgovua-85788
record_format dspace
spelling open-sciencenbuvgovua-857882024-04-16T18:47:46Z Temperature and laser annealing of nonstoichiometric SiOx films O. O. Havryliuk Yu. Semchuk 2617-5975 2013 en Surface http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000516567 Article
institution Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS
collection Open-Science
language English
series Surface
spellingShingle Surface
O. O. Havryliuk
Yu. Semchuk
Temperature and laser annealing of nonstoichiometric SiOx films
format Article
author O. O. Havryliuk
Yu. Semchuk
author_facet O. O. Havryliuk
Yu. Semchuk
author_sort O. O. Havryliuk
title Temperature and laser annealing of nonstoichiometric SiOx films
title_short Temperature and laser annealing of nonstoichiometric SiOx films
title_full Temperature and laser annealing of nonstoichiometric SiOx films
title_fullStr Temperature and laser annealing of nonstoichiometric SiOx films
title_full_unstemmed Temperature and laser annealing of nonstoichiometric SiOx films
title_sort temperature and laser annealing of nonstoichiometric siox films
publishDate 2013
url http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000516567
work_keys_str_mv AT oohavryliuk temperatureandlaserannealingofnonstoichiometricsioxfilms
AT yusemchuk temperatureandlaserannealingofnonstoichiometricsioxfilms
first_indexed 2024-04-17T06:07:40Z
last_indexed 2024-04-17T06:07:40Z
_version_ 1796886230280962048