Simulation of the Diffusive Oxide Formation Process on the Surface of Nanosize Metallic Films
Збережено в:
Дата: | 2013 |
---|---|
Автори: | A. I. Oleshkevych, S. I. Sydorenko, A. M. Husak, S. M. Voloshko |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2013
|
Назва видання: | Metallophysics and advanced technologies |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000518010 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Application of Rutherford backscattering method for diffusion and phase formation studies in thin films of Sn – Cu system
за авторством: S. M. Voloshko, та інші
Опубліковано: (2013) -
Simulations of Diffusion and Ordering Processes in Au/Cu Thin Film System by Mean Field Kinetics Method
за авторством: S. I. Sidorenko, та інші
Опубліковано: (2013) -
Influence of Annealing Environment on the Ni Diffusion Rate to Surface of the Thin-Film Au/Ni System
за авторством: S. I. Sydorenko, та інші
Опубліковано: (2012) -
Universal character of tunnelling conductance of metal-insulator-metal heterostructures with nanosize oxide interlayers
за авторством: M. A. Belogolovskij, та інші
Опубліковано: (2011) -
Adsorption of primary aliphatic amines on nanosized oxides surface
за авторством: O. O. Dudik, та інші
Опубліковано: (2011)