Formation of Stationary Surface Structures During Ion Beam Sputtering
Збережено в:
| Дата: | 2013 |
|---|---|
| Автори: | I. O. Lysenko, V. O. Kharchenko, S. V. Kokhan, A. V. Dvornychenko |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2013
|
| Назва видання: | Metallophysics and advanced technologies |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000518060 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Morphology change of the silicon surface induced by Ar+ ion beam sputtering
за авторством: Kharchenko, V.O., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Kharchenko, V.O., та інші
Опубліковано: (2011)
Analysis of the formation of stationary patterns at the Ion sputtering within the anisotropic Kuramoto–Sivashinsky model
за авторством: I. O. Lysenko
Опубліковано: (2016)
за авторством: I. O. Lysenko
Опубліковано: (2016)
Analysis of the formation of stationary patterns at the Ion sputtering within the anisotropic Kuramoto–Sivashinsky model
за авторством: I. O. Lysenko
Опубліковано: (2016)
за авторством: I. O. Lysenko
Опубліковано: (2016)
Structure formation processes induced by the ion sputtering in anisotropic system with additive noise
за авторством: Kharchenko, V.O.
Опубліковано: (2011)
за авторством: Kharchenko, V.O.
Опубліковано: (2011)
Modelling of processes of formation of pyramidal structures during epitaxial growth
за авторством: V. O. Kharchenko, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: V. O. Kharchenko, та інші
Опубліковано: (2015)
Phase and structure formation mechanism of ion-sputtered condensates
за авторством: O. V. Sobol
Опубліковано: (2008)
за авторством: O. V. Sobol
Опубліковано: (2008)
Structure and fluorescence of ZnWO₄ films prepared by ion beam sputtering
за авторством: Dubovik, A., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Dubovik, A., та інші
Опубліковано: (2012)
Hybrid systems for electron beam evaporation and ion sputtering
за авторством: A. I. Kuzmichev, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: A. I. Kuzmichev, та інші
Опубліковано: (2019)
Regularities of formation of a phase-structural state of the condensates obtained by ion sputtering
за авторством: A. P. Shpak, та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: A. P. Shpak, та інші
Опубліковано: (2008)
Vacuum arc sputtering of subsrate surface by chrome and molybdenum ions
за авторством: V. A. Stolbovoj
Опубліковано: (2009)
за авторством: V. A. Stolbovoj
Опубліковано: (2009)
Effect of low-energy ion bombardment during the sputtering on the crystal structure of FePt films
за авторством: Naumov, V.V., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Naumov, V.V., та інші
Опубліковано: (2008)
Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)
Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition
за авторством: M. A. Lisovenko, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: M. A. Lisovenko, та інші
Опубліковано: (2013)
Ion implantation, ion-beam mixing during simultaneous ion implantation and metal deposition
за авторством: Lisovenko, M.A., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Lisovenko, M.A., та інші
Опубліковано: (2013)
Influence of the irradiation doze and temperature on the flux of ejecting atoms during relief formation on Mg surface by Ar⁺ sputtering
за авторством: Starshinov, I.N., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Starshinov, I.N., та інші
Опубліковано: (2010)
The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method
за авторством: A. I. Ievtushenko, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: A. I. Ievtushenko, та інші
Опубліковано: (2017)
The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method
за авторством: Ievtushenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Ievtushenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2017)
Structural and morphological properties of nanometer carbon films obtained by electron beam sputtering of graphite
за авторством: V. O. Yukhymchuk, та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: V. O. Yukhymchuk, та інші
Опубліковано: (2023)
Nanostructuring of Surface Layers of Corrosion-Resistant Austenitic Steels during High-Intensity Ion-Beam Processing
за авторством: A. V. Belyj, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: A. V. Belyj, та інші
Опубліковано: (2011)
Investigation of beam extraction and formation in the ions injector
за авторством: Belikov, А.G., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Belikov, А.G., та інші
Опубліковано: (2018)
Solid ion accelerator based on magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
Ion beam technologies of surface modification. I. Ion cleaning and high dose implantation
за авторством: V. A. Belous, та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: V. A. Belous, та інші
Опубліковано: (2003)
Specular and diffusive reflectance of stainless steel mirrors sputtered with Ar⁺ ions
за авторством: Konovalov, V.G., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Konovalov, V.G., та інші
Опубліковано: (2012)
Structure and properties of Mg, Al, Ti oxide and nitride layers formed by ion-plasma sputtering
за авторством: Pidkova, V., та інші
Опубліковано: (2014-12-12)
за авторством: Pidkova, V., та інші
Опубліковано: (2014-12-12)
Structural properties of nanocomposite SiO₂(Si) films obtained by ion-plasma sputtering and thermal annealing
за авторством: Bratus, O.L., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Bratus, O.L., та інші
Опубліковано: (2011)
Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2019)
Improvement of helium ions beam formation and transport system
за авторством: Dyachenko, A.F., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Dyachenko, A.F., та інші
Опубліковано: (2021)
Features of coatings deposition in combined stationary-pulsed operation mode of the magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2017)
Structural properties of nanocomposite SiO2(Si) films obtained by ion-plasma sputtering and thermal annealing
за авторством: O. L. Bratus, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: O. L. Bratus, та інші
Опубліковано: (2011)
Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
The microrelief studies of stainless steel mirrors sputtered with Ar⁺ ions of different energy
за авторством: Bondarenko, V.N., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Bondarenko, V.N., та інші
Опубліковано: (2018)
Effect of increasing surface roughness on sputtering and reflection
за авторством: Bizyukov, I., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Bizyukov, I., та інші
Опубліковано: (2012)
Quasi-stationary mode of the beam-plasma discharge
за авторством: Dadyka, D.I., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Dadyka, D.I., та інші
Опубліковано: (2018)
The sputtering of silicon and carbon targets by accelerated ion by the fullerene C60
за авторством: M. V. Maleev, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: M. V. Maleev, та інші
Опубліковано: (2015)
Features of electron beam evaporation under surface electron beam formation
за авторством: Mysiura, I.N., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Mysiura, I.N., та інші
Опубліковано: (2014)
Surface wave plasma source for broad-beam ion and electron production
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
Precision doublet of magnetic quadrupole lenses for ion beam formation
за авторством: Ponomarev, A.G., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Ponomarev, A.G., та інші
Опубліковано: (2020)
Secondary ion emission during the proton bombardment of metal surfaces
за авторством: V. T. Cherepin, та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: V. T. Cherepin, та інші
Опубліковано: (2018)
Secondary Ion Emission during the Proton Bombardment of Metal Surfaces
за авторством: Cherepin, V.T., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Cherepin, V.T., та інші
Опубліковано: (2018)
Methylene blue ion formation over various surfaces
за авторством: V. O. Habovych, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: V. O. Habovych, та інші
Опубліковано: (2011)
Схожі ресурси
-
Morphology change of the silicon surface induced by Ar+ ion beam sputtering
за авторством: Kharchenko, V.O., та інші
Опубліковано: (2011) -
Analysis of the formation of stationary patterns at the Ion sputtering within the anisotropic Kuramoto–Sivashinsky model
за авторством: I. O. Lysenko
Опубліковано: (2016) -
Analysis of the formation of stationary patterns at the Ion sputtering within the anisotropic Kuramoto–Sivashinsky model
за авторством: I. O. Lysenko
Опубліковано: (2016) -
Structure formation processes induced by the ion sputtering in anisotropic system with additive noise
за авторством: Kharchenko, V.O.
Опубліковано: (2011) -
Modelling of processes of formation of pyramidal structures during epitaxial growth
за авторством: V. O. Kharchenko, та інші
Опубліковано: (2015)