Electrophysical characteristics of near-surface layers in p-Si crystals with sputtered Al films and subjected to elastic deformation
Збережено в:
| Дата: | 2013 |
|---|---|
| Автори: | B. V. Pavlyk, M. O. Kushlyk, R. I. Didyk, Y. A. Shykorjak, D. P. Slobodzyan, B. Y. Kulyk |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2013
|
| Назва видання: | Ukrainian journal of physics |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000690899 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Electrophysical characteristics of near-surface layers in p-Si crystals with sputtered Al films and subjected to elastic deformation
за авторством: B. V. Pavlyk, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: B. V. Pavlyk, та інші
Опубліковано: (2013)
Електрофiзичнi характеристики приповерхневих шарiв кристалiв Si p-типу, з напиленими плiвками Al, пiдданих пружнiй деформацiї
за авторством: Pavlyk, B. V., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Pavlyk, B. V., та інші
Опубліковано: (2018)
Stydy on resistivity and micostructure of magnetron sputtered α-C:Si films
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2006)
Effect of electron irradiation on transparent conductive films ZnO:Al deposited at different power sputtering
за авторством: D. V. Myroniuk, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: D. V. Myroniuk, та інші
Опубліковано: (2015)
Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)
Phase composition and electrophysical properties of iron films
за авторством: S. I. Vorobiov, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: S. I. Vorobiov, та інші
Опубліковано: (2012)
Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011)
Effect of electron irradiation on transparent conductive films ZnO:Al deposited at different sputtering power
за авторством: Myroniuk, D.V., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Myroniuk, D.V., та інші
Опубліковано: (2015)
Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)
The electrophysical and optical properties of gadolinium monoantimonide thin films
за авторством: Z. Jabua, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Z. Jabua, та інші
Опубліковано: (2012)
The electrophysical and optical properties of gadolinium monoantimonide thin films
за авторством: Jabua, Z., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Jabua, Z., та інші
Опубліковано: (2012)
Features of tensoresistive properties of thin metallic films under elastic and plastic deformations
за авторством: D. V. Velykodnyi, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: D. V. Velykodnyi, та інші
Опубліковано: (2011)
The effect of size of the SiC inclusions in the AlN–SiC composite structure on its electrophysical properties
за авторством: T. B. Serbeniuk, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: T. B. Serbeniuk, та інші
Опубліковано: (2016)
Electrophysical сharacteristics of LEDs based on GaN epitaxial films
за авторством: Oleksenko, P.Ph., та інші
Опубліковано: (1998)
за авторством: Oleksenko, P.Ph., та інші
Опубліковано: (1998)
Dielectric, ferroelectric and piezoelectric properties of sputtered PZT thin films on Si substrates: influence of film thickness and orientation
за авторством: Haccart, T., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Haccart, T., та інші
Опубліковано: (2002)
The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method
за авторством: A. I. Ievtushenko, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: A. I. Ievtushenko, та інші
Опубліковано: (2017)
The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method
за авторством: Ievtushenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Ievtushenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2017)
Structure and magnetic state of films deposited by laser sputtering of nickel
за авторством: Bagmut, A.G., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Bagmut, A.G., та інші
Опубліковано: (2009)
Contact Deformation Behavior of an Elastic Silicone/SiC Abrasive in Grinding and Polishing
за авторством: Li, N., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Li, N., та інші
Опубліковано: (2018)
Structural properties of nanocomposite SiO₂(Si) films obtained by ion-plasma sputtering and thermal annealing
за авторством: Bratus, O.L., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Bratus, O.L., та інші
Опубліковано: (2011)
ZnO:Al wide zone “windows” deposited by magnetron sputtering on unheated substrate
за авторством: Boyko, B.Т., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Boyko, B.Т., та інші
Опубліковано: (2000)
Effect of an Ideal Fluid Layer on Surface Instability of an Incompressible Elastic Half-Space Subjected to Finite Initial Deformations
за авторством: O. M. Bahno
Опубліковано: (2022)
за авторством: O. M. Bahno
Опубліковано: (2022)
Magnetron sputtering of high temperature composite ceramics AlN-TiB₂-TiSi₂
за авторством: Torianik, I.N., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Torianik, I.N., та інші
Опубліковано: (2013)
Structure and fluorescence of ZnWO₄ films prepared by ion beam sputtering
за авторством: Dubovik, A., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Dubovik, A., та інші
Опубліковано: (2012)
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
Structure of tantalum diboride thin films deposited by RF-magnetron sputtering
за авторством: Konovalov, V.A., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Konovalov, V.A., та інші
Опубліковано: (2008)
Magnetron sputtered coatings of AlN-TiCrB₂ system
за авторством: Panasyuk, A.D., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Panasyuk, A.D., та інші
Опубліковано: (2009)
Structural properties of nanocomposite SiO2(Si) films obtained by ion-plasma sputtering and thermal annealing
за авторством: O. L. Bratus, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: O. L. Bratus, та інші
Опубліковано: (2011)
Designing finishing materials with a gradient of electrophysical properties
за авторством: Y. Biruk
Опубліковано: (2022)
за авторством: Y. Biruk
Опубліковано: (2022)
Elastic equilibrium of a hollow cylinder of finite length subjected to axisymmetric force loading
за авторством: M. Y. Yuzviak, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: M. Y. Yuzviak, та інші
Опубліковано: (2021)
Force Model and Elastic Deformation Analysis of 20-High Sendzimir Mill Rolls
за авторством: Wang, Z.H., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Wang, Z.H., та інші
Опубліковано: (2017)
Effect of the nitrogen flow on the properties of Si–C–N amorphous thin films produced by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)
Structural and morphological properties of nanometer carbon films obtained by electron beam sputtering of graphite
за авторством: V. O. Yukhymchuk, та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: V. O. Yukhymchuk, та інші
Опубліковано: (2023)
Mathematical modelling of deformation of structural elements subjected to thermal-power loading
за авторством: B. Drobenko, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: B. Drobenko, та інші
Опубліковано: (2014)
Deformation-Induced Interfacial Interaction in Elastically-Plastically Deformed Single Crystals of CdxHg₁₋xTe
за авторством: Koman, B.P.
Опубліковано: (2017)
за авторством: Koman, B.P.
Опубліковано: (2017)
Electrophysical properties of granulated solid solutions in Co and Ag based film systems
за авторством: Yu. M. Shabelnyk, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Yu. M. Shabelnyk, та інші
Опубліковано: (2012)
Electrophysical properties of meso-porous silicon free standing films modified with palladium
за авторством: A. I. Manilov, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: A. I. Manilov, та інші
Опубліковано: (2011)
Li-Bi-Se semiconductor thin films: technology, structure and electrophysical properties
за авторством: V. I. Bilozertseva, та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: V. I. Bilozertseva, та інші
Опубліковано: (2010)
Electrophysical properties of meso-porous silicon free standing films modified with palladium
за авторством: Manilov, A.I., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Manilov, A.I., та інші
Опубліковано: (2011)
Li-Bi-Se semiconductor thin films: technology, structure and electrophysical properties
за авторством: Bilozertseva, V.I., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Bilozertseva, V.I., та інші
Опубліковано: (2010)
Схожі ресурси
-
Electrophysical characteristics of near-surface layers in p-Si crystals with sputtered Al films and subjected to elastic deformation
за авторством: B. V. Pavlyk, та інші
Опубліковано: (2013) -
Електрофiзичнi характеристики приповерхневих шарiв кристалiв Si p-типу, з напиленими плiвками Al, пiдданих пружнiй деформацiї
за авторством: Pavlyk, B. V., та інші
Опубліковано: (2018) -
Stydy on resistivity and micostructure of magnetron sputtered α-C:Si films
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2006) -
Effect of electron irradiation on transparent conductive films ZnO:Al deposited at different power sputtering
за авторством: D. V. Myroniuk, та інші
Опубліковано: (2015) -
Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)