Influence of high temperature annealing on the structure and the intrinsic absorption edge of thin-film silicon doped with tin

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2013
Автори:	R. M. Rudenko, V. V. Voitovych, M. M. Krasko, A. G. Kolosyuk, A. M. Kraichynskyi, V. O. Yukhymchuk, V. A. Makara
Формат:	Стаття
Мова:	English
Опубліковано:	2013
Назва видання:	Ukrainian journal of physics
Онлайн доступ:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000690902
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine \| LibNAS

Репозитарії

Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS

Опис
Опис недоступний.