Electrophysical characteristics of near-surface layers in p-Si crystals with sputtered Al films and subjected to elastic deformation
Збережено в:
| Дата: | 2013 |
|---|---|
| Автори: | B. V. Pavlyk, M. O. Kushlyk, R. I. Didyk, Y. A. Shykoriak, D. P. Slobodzian, Ya. Kulyk |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2013
|
| Назва видання: | Ukrainian Journal of Physics |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000725574 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Electrophysical characteristics of near-surface layers in p-Si crystals with sputtered Al films and subjected to elastic deformation
за авторством: B. V. Pavlyk, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: B. V. Pavlyk, та інші
Опубліковано: (2013)
Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)
Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011)
Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)
Structural properties of nanocomposite SiO2(Si) films obtained by ion-plasma sputtering and thermal annealing
за авторством: O. L. Bratus, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: O. L. Bratus, та інші
Опубліковано: (2011)
Dielectric, ferroelectric and piezoelectric properties of sputtered PZT thin films on Si substrates: influence of film thickness and orientation
за авторством: Haccart, T., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Haccart, T., та інші
Опубліковано: (2002)
The effect of size of the SiC inclusions in the AlN–SiC composite structure on its electrophysical properties
за авторством: T. B. Serbeniuk, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: T. B. Serbeniuk, та інші
Опубліковано: (2016)
Effect of the nitrogen flow on the properties of Si–C–N amorphous thin films produced by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)
Effect of electron irradiation on transparent conductive films ZnO:Al deposited at different power sputtering
за авторством: D. V. Myroniuk, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: D. V. Myroniuk, та інші
Опубліковано: (2015)
Magnetron sputtering of high temperature composite ceramics AlN-TiB2-TiSi2
за авторством: I. N. Torianik, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: I. N. Torianik, та інші
Опубліковано: (2013)
Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)
Phase composition and electrophysical properties of iron films
за авторством: S. I. Vorobiov, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: S. I. Vorobiov, та інші
Опубліковано: (2012)
Elasticity and fatigue of Ti—Si system deformed alloys at highfrequency load
за авторством: S. A. Firstov, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: S. A. Firstov, та інші
Опубліковано: (2013)
The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method
за авторством: A. I. Ievtushenko, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: A. I. Ievtushenko, та інші
Опубліковано: (2017)
Electrophysical characteristics of large-size aSi-Si(Li) detector heterostructures
за авторством: R. A. Muminov, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: R. A. Muminov, та інші
Опубліковано: (2012)
The electrophysical and optical properties of gadolinium monoantimonide thin films
за авторством: Z. Jabua, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Z. Jabua, та інші
Опубліковано: (2012)
Structure and magnetic state of films deposited by laser sputtering of nickel
за авторством: Bagmut, A.G., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Bagmut, A.G., та інші
Опубліковано: (2009)
Some peculiarities of thermopower anisotropy in undeformed and elastically deformed n – Si and n – Ge single crystals
за авторством: G. P. Gaidar, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: G. P. Gaidar, та інші
Опубліковано: (2015)
Features of tensoresistive properties of thin metallic films under elastic and plastic deformations
за авторством: D. V. Velykodnyi, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: D. V. Velykodnyi, та інші
Опубліковано: (2011)
Magnetron sputtered coatings of AlN-TiCrB₂ system
за авторством: Panasyuk, A.D., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Panasyuk, A.D., та інші
Опубліковано: (2009)
Effect of low-energy ion bombardment during the sputtering on the crystal structure of FePt films
за авторством: Naumov, V.V., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Naumov, V.V., та інші
Опубліковано: (2008)
Microstructure and Mechanical Properties of Hypereutectic Al—Si Alloy after Severe Plastic Deformation
за авторством: V. Z. Spuskanjuk, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: V. Z. Spuskanjuk, та інші
Опубліковано: (2014)
Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)
Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)
Fabrication of nanosize LiPON films by means of high-frequency magnetron sputtering
за авторством: O. I. Vjunov, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: O. I. Vjunov, та інші
Опубліковано: (2014)
Effect of sputtering power on optical properties of nickel oxide electrochromic thin films
за авторством: P. Panprom, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: P. Panprom, та інші
Опубліковано: (2020)
Effect of sputtering power on optical properties of nickel oxide electrochromic thin films
за авторством: P. Panprom, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: P. Panprom, та інші
Опубліковано: (2020)
Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
за авторством: N. A. Vasilenko, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: N. A. Vasilenko, та інші
Опубліковано: (2013)
Physical Mechanisms of SiO2 Target Sputtering with Accelerated Ions of C60
за авторством: M. V. Maleev, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: M. V. Maleev, та інші
Опубліковано: (2015)
Effect of an Ideal Fluid Layer on Surface Instability of an Incompressible Elastic Half-Space Subjected to Finite Initial Deformations
за авторством: O. M. Bahno
Опубліковано: (2022)
за авторством: O. M. Bahno
Опубліковано: (2022)
Structure and mechanical properties of Ti–Al–C and Ti–Al–Si–C films: experimental and first-principles investigations
за авторством: V. I. Ivashchenko, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: V. I. Ivashchenko, та інші
Опубліковано: (2021)
Influence of SiOx-film deposited by thermal evaporation on the near-bandedge luminescence of mono-crystalline silicon
за авторством: N. A. Vlasenko, та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: N. A. Vlasenko, та інші
Опубліковано: (2010)
Formation of structural heterogeneity of the near-surface layer of films of iron-yttrium granatos by implantation of Si+ ions
за авторством: B. K. Ostafiichuk, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: B. K. Ostafiichuk, та інші
Опубліковано: (2011)
Electrophysical properties of granulated solid solutions in Co and Ag based film systems
за авторством: Yu. M. Shabelnyk, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Yu. M. Shabelnyk, та інші
Опубліковано: (2012)
Electrophysical properties of meso-porous silicon free standing films modified with palladium
за авторством: A. I. Manilov, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: A. I. Manilov, та інші
Опубліковано: (2011)
Li-Bi-Se semiconductor thin films: technology, structure and electrophysical properties
за авторством: Bilozertseva, V.I., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Bilozertseva, V.I., та інші
Опубліковано: (2010)
Li-Bi-Se semiconductor thin films: technology, structure and electrophysical properties
за авторством: V. I. Bilozertseva, та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: V. I. Bilozertseva, та інші
Опубліковано: (2010)
Electrophysical properties of meso-porous silicon free standing films modified with palladium
за авторством: Manilov, A.I., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Manilov, A.I., та інші
Опубліковано: (2011)
The influence of the magnetron sputtering regime and the composition of the reaction gas on the structure and properties of ITO films
за авторством: A. I. Bazhin, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. I. Bazhin, та інші
Опубліковано: (2012)
Structural and morphological properties of nanometer carbon films obtained by electron beam sputtering of graphite
за авторством: V. O. Yukhymchuk, та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: V. O. Yukhymchuk, та інші
Опубліковано: (2023)
Схожі ресурси
-
Electrophysical characteristics of near-surface layers in p-Si crystals with sputtered Al films and subjected to elastic deformation
за авторством: B. V. Pavlyk, та інші
Опубліковано: (2013) -
Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010) -
Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011) -
Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020) -
Structural properties of nanocomposite SiO2(Si) films obtained by ion-plasma sputtering and thermal annealing
за авторством: O. L. Bratus, та інші
Опубліковано: (2011)