Rudenko, R. M., Krasko, M. M., Voitovych, V. V., Kolosiuk, A. H., Povarchuk, Y., Kraichynskyi, A. M., . . . Zaloilo, I. A. (2013). Behavior of hydrogen during crystallization of thin silicon films doped with tin.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Rudenko, R. M., et al. Behavior of Hydrogen During Crystallization of Thin Silicon Films Doped with Tin. 2013.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Rudenko, R. M., et al. Behavior of Hydrogen During Crystallization of Thin Silicon Films Doped with Tin. 2013.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.