Estimation of the efficiency of material injection into the reflex discharge by sputtering the cathode material
Збережено в:
Дата: | 2012 |
---|---|
Автори: | Yu. V. Kovtun, E. I. Skibenko, A. I. Skibenko, V. B. Yuferov |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2012
|
Назва видання: | Ukrainian journal of physics |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000685748 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Estimation of the efficiency of material injection into the reflex discharge by sputtering the cathode material
за авторством: Yu. V. Kovtun, та інші
Опубліковано: (2012) -
Mass distribution of sputtered cathode material in the reflex discharge along the magnetic field mirror configuration
за авторством: Kovtun, Yu.V, та інші
Опубліковано: (2016) -
Calculations for parameters of a stationary reflex discharge
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2015) -
Determining the rotational velocity of gas-metal multicomponent plasma in a reflex discharge
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2010) -
Radiation of multicomponent gas-metal plasma of a pulsed reflex discharge
за авторством: Kovtun, Yu.V., та інші
Опубліковано: (2010)