Zaiats, M. S., Boiko, V. H., Romaniuk, B. M., & Lytvyn, P. M. (2021). Low-temperature ion-plasma deposition technology of nanostructured films of aluminum and boron nitrides.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Zaiats, M. S., V. H. Boiko, B. M. Romaniuk, та P. M. Lytvyn. Low-temperature Ion-plasma Deposition Technology of Nanostructured Films of Aluminum and Boron Nitrides. 2021.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Zaiats, M. S., et al. Low-temperature Ion-plasma Deposition Technology of Nanostructured Films of Aluminum and Boron Nitrides. 2021.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.