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Low-temperature ion-plasma deposition technology of nanostructured films of aluminum and boron nitrides

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Bibliographische Detailangaben
Datum:	2021
Hauptverfasser:	M. S. Zaiats, V. H. Boiko, B. M. Romaniuk, P. M. Lytvyn
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	2021
Schriftenreihe:	Optoelectronics and Semiconductor Technique
Online Zugang:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001342045
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