Bazhin, A. I., Trotsan, A. N., Chertopalov, S. V., Stipanenko, A. A., & Stupak, V. A. (2012). The influence of the magnetron sputtering regime and the composition of the reaction gas on the structure and properties of ITO films.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Bazhin, A. I., A. N. Trotsan, S. V. Chertopalov, A. A. Stipanenko, та V. A. Stupak. The Influence of the Magnetron Sputtering Regime and the Composition of the Reaction Gas on the Structure and Properties of ITO Films. 2012.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Bazhin, A. I., et al. The Influence of the Magnetron Sputtering Regime and the Composition of the Reaction Gas on the Structure and Properties of ITO Films. 2012.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.