Formation of silicon nanoclusters in buried ultra-thin oxide layers

Formation of silicon nanoclusters in buried ultra-thin oxide layers

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Bibliographische Detailangaben
Datum:	2011
Hauptverfasser:	O. S. Oberemok, V. G. Litovchenko, D. V. Gamov, V. G. Popov, V. P. Melnik, Yo. Gudymenko, V. A. Nikirin, I. M. Khatsevich
Format:	Artikel
Sprache:	English
Veröffentlicht:	2011
Schriftenreihe:	Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics
Online Zugang:	http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000349736
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