Growth of the photonic nanostruc-tures using interference lithography and oblique deposition in vacuum
Збережено в:
Дата: | 2011 |
---|---|
Автори: | I. Z. Indutnyi, V. I. Mynko, Ye. Shepeliavyi, M. V. Sopinskyi, V. M. Tkach, V. A. Danko |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2011
|
Назва видання: | Optoelectronics and Semiconductor Technique |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000363683 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Formation of submicron periodic plasmon structures of large area by using the interference lithography method with vacuum photoresists
за авторством: V. A. Danko, та інші
Опубліковано: (2015) -
Nanopatterning Au chips for SPR refractometer by using interference lithography and chalcogenide photoresist
за авторством: V. A. Danko, та інші
Опубліковано: (2015) -
Nanopatterning Au chips for SPR refractometer by using interference lithography and chalcogenide photoresist
за авторством: Dan’ko, V.A., та інші
Опубліковано: (2015) -
Efficient SERS substrates based on laterally ordered gold nanostructures made using interference lithography
за авторством: O. M. Hreshchuk, та інші
Опубліковано: (2019) -
Polarization conversion effect in obliquely deposited SiOx films
за авторством: Sopinskyy, M.V., та інші
Опубліковано: (2011)