Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
Збережено в:
| Дата: | 2011 |
|---|---|
| Автори: | V. A. Sevrjukova, E. N. Zubarev, V. V. Kondratenko, Ju. P. Pershin, V. O. Tsebenko |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
2011
|
| Назва видання: | Physical surface engineering |
| Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000889993 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)
Structural studies of zinc oxide and aluminum nitride films obtained by CVD and magnetron sputtering methods
за авторством: A. D. Pogrebnjak, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. D. Pogrebnjak, та інші
Опубліковано: (2012)
Stydy on resistivity and micostructure of magnetron sputtered α-C:Si films
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2006)
Structural properties of nanocomposite SiO₂(Si) films obtained by ion-plasma sputtering and thermal annealing
за авторством: Bratus, O.L., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Bratus, O.L., та інші
Опубліковано: (2011)
Structural properties of nanocomposite SiO2(Si) films obtained by ion-plasma sputtering and thermal annealing
за авторством: O. L. Bratus, та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: O. L. Bratus, та інші
Опубліковано: (2011)
Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)
The influence of the magnetron sputtering regime and the composition of the reaction gas on the structure and properties of ITO films
за авторством: A. I. Bazhin, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. I. Bazhin, та інші
Опубліковано: (2012)
Evolution of structure and mechanism of thermal decomposition of C/Si multilayers
за авторством: I. A. Zhuravel, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: I. A. Zhuravel, та інші
Опубліковано: (2014)
Effect of the nitrogen flow on the properties of Si–C–N amorphous thin films produced by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)
Structural and optical studies of Cu₆PSe₅I-based thin film deposited by magnetron sputtering
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2017)
Investigation of the Phase Interfaces in Periodic Multilayer Mo/Si Structures, Using the Method of Mass-Spectrometry of Neutral Particles
за авторством: Ju. P. Pershin, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Ju. P. Pershin, та інші
Опубліковано: (2013)
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
Infrared heaters with thin-film conductive layers were synthesized on the glass by the magnetron sputtering
за авторством: Lytvynenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Lytvynenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2017)
Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)
Characterisation of Mo–V–N Coatings Deposited on XC100 Substrate by Sputtering Cathodic Magnetron
за авторством: Chermime, Brahim, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Chermime, Brahim, та інші
Опубліковано: (2017)
Fabrication of nanosize LiPON films by means of high-frequency magnetron sputtering
за авторством: O. I. Vjunov, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: O. I. Vjunov, та інші
Опубліковано: (2014)
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)
Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)
Structural and optical studies of Cu6PSe5I-based thin film deposited by magnetron sputtering
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: I. P. Studenyak, та інші
Опубліковано: (2017)
The influence of physical and technological magnetron sputtering modes on the structure and optical properties of CdS and CdTe films
за авторством: G. S. Khrypunov, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: G. S. Khrypunov, та інші
Опубліковано: (2017)
The influence of physical and technological magnetron sputtering modes on the structure and optical properties of CdS and CdTe films
за авторством: Khrypunov, G.S., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Khrypunov, G.S., та інші
Опубліковано: (2017)
Structure of Fe-Cu coatings prepared by the magnetron sputtering method
за авторством: Nowakowska-Langier, K., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Nowakowska-Langier, K., та інші
Опубліковано: (2010)
Structural and morphological properties of nanometer carbon films obtained by electron beam sputtering of graphite
за авторством: V. O. Yukhymchuk, та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: V. O. Yukhymchuk, та інші
Опубліковано: (2023)
Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)
Chemical composition and light emission properties of Si-rich-SiOx layers prepared by magnetron sputtering
за авторством: Khomenkova, L., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Khomenkova, L., та інші
Опубліковано: (2007)
Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)
Phase composition, structure and stress state of magnetron sputtered W-Ti condensates
за авторством: Sobol`, O.V.
Опубліковано: (2006)
за авторством: Sobol`, O.V.
Опубліковано: (2006)
Formation of antibacterial coatings on chitosan matrices by magnetron sputtering
за авторством: O. V. Kalinkevich, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: O. V. Kalinkevich, та інші
Опубліковано: (2017)
Initial stages of intermixing in Mo/Si multilayer coatings during He ion irradiation
за авторством: D. L. Voronov, та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: D. L. Voronov, та інші
Опубліковано: (2004)
Influence of parameters of magnetron sputtering process on phase composition and structure of carbon nitride coatings
за авторством: Yu. S. Borysov, та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Yu. S. Borysov, та інші
Опубліковано: (2022)
Electrical and optical parameters of Cu₆PS₅I-based thin films deposited using magnetron sputtering
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2016)
Synthesis of TiO₂ different phase by DC magnetron sputtering
за авторством: Dobrovolskiy, A., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Dobrovolskiy, A., та інші
Опубліковано: (2014)
Solid ion accelerator based on magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
Optical and structural studies of phase transformations and composition fluctuations at annealing of Zn₁₋xCdxO films grown by dc magnetron sputtering
за авторством: Kolomys, O., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Kolomys, O., та інші
Опубліковано: (2014)
Magnetron sputtering of high temperature composite ceramics AlN-TiB2-TiSi2
за авторством: I. N. Torianik, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: I. N. Torianik, та інші
Опубліковано: (2013)
Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)
The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)
Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)
Optical and structural studies of phase transformations and composition fluctuations at annealing of Zn1-xCdxO films grown by dc magnetron sputtering
за авторством: O. Kolomys, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: O. Kolomys, та інші
Опубліковано: (2014)
Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)
Схожі ресурси
-
Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010) -
Structural studies of zinc oxide and aluminum nitride films obtained by CVD and magnetron sputtering methods
за авторством: A. D. Pogrebnjak, та інші
Опубліковано: (2012) -
Stydy on resistivity and micostructure of magnetron sputtered α-C:Si films
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2006) -
Structural properties of nanocomposite SiO₂(Si) films obtained by ion-plasma sputtering and thermal annealing
за авторством: Bratus, O.L., та інші
Опубліковано: (2011) -
Structural properties of nanocomposite SiO2(Si) films obtained by ion-plasma sputtering and thermal annealing
за авторством: O. L. Bratus, та інші
Опубліковано: (2011)