Optical properties of submicron silicon oxide films after high-temperature processing
Збережено в:
Дата: | 2011 |
---|---|
Автори: | V. V. Litvinenko, V. E. Rodionov, N. A. Rodionova, I. N. Shmidko |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2011
|
Назва видання: | Physical surface engineering |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000892715 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Репозиторії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
High-brightness film phosphor of red color based on gadolinium oxide
за авторством: V. V. Litvinenko, та інші
Опубліковано: (2012) -
Optical parameters of nanocomposite films of porous aluminium oxide with quantum dots of silicon or germanium
за авторством: Ju. V. Ushenin, та інші
Опубліковано: (2013) -
Amorphous submicron layer in depletion region: new approach to increase the silicon solar cell efficiency
за авторством: A. V. Kozinetz, та інші
Опубліковано: (2018) -
Amorphous submicron layer in depletion region: new approach to increase the silicon solar cell efficiency
за авторством: A. V. Kozinetz, та інші
Опубліковано: (2018) -
Low-temperature deposition of silicon dioxide films in high-density plasma
за авторством: Yasunas, A., та інші
Опубліковано: (2013)