Поліпшення однорідності і збільшення швидкості утворення іскровим розрядом TiO2 плівок у зовнішньому електричному полі

We have used an external electric field to increase both the uniformity and deposition rate of TiO2 films. The experiment is carried out by sparking-off titanium wires with a high dc voltage of 1 kV (field Eint = 10 kV/cm) and a limited current of 3 mA. The external electric fields (Eext) of 3, 6, a...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2018
Автори: Thongpan, W., Kumpika, T., Kantarak, E., Panthawan, A., Pooseekheaw, P., Singjai, P., Tuantranont, A., Thongsuwan, W.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Publishing house "Academperiodika" 2018
Теми:
Онлайн доступ:https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/117
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Ukrainian Journal of Physics

Репозитарії

Ukrainian Journal of Physics
Опис
Резюме:We have used an external electric field to increase both the uniformity and deposition rate of TiO2 films. The experiment is carried out by sparking-off titanium wires with a high dc voltage of 1 kV (field Eint = 10 kV/cm) and a limited current of 3 mA. The external electric fields (Eext) of 3, 6, and 9 kV/cm were applied to the sparking system for 1–5 hours. The as-deposited film morphology was characterized by scanning electron microscopy. The results clearly show that the films are only deposited on the external electric field area. Furthermore, the deposition rate of the films increased from 40.7% to 77.8% in the presence of the external electric field of 9 kV/cm. The effects of an external electric field on both the deposition rate and uniformity of films are investigated and described.