Поліпшення однорідності і збільшення швидкості утворення іскровим розрядом TiO2 плівок у зовнішньому електричному полі
We have used an external electric field to increase both the uniformity and deposition rate of TiO2 films. The experiment is carried out by sparking-off titanium wires with a high dc voltage of 1 kV (field Eint = 10 kV/cm) and a limited current of 3 mA. The external electric fields (Eext) of 3, 6, a...
Збережено в:
| Дата: | 2018 |
|---|---|
| Автори: | , , , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Publishing house "Academperiodika"
2018
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/117 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Ukrainian Journal of Physics |
Репозитарії
Ukrainian Journal of Physics| id |
ujp2-article-117 |
|---|---|
| record_format |
ojs |
| spelling |
ujp2-article-1172018-08-23T10:44:08Z External-Electric-Field-Enhanced Uniformity and Deposition Rate of a TiO2 Film Prepared by the Sparking Process Поліпшення однорідності і збільшення швидкості утворення іскровим розрядом TiO2 плівок у зовнішньому електричному полі Thongpan, W. Kumpika, T. Kantarak, E. Panthawan, A. Pooseekheaw, P. Singjai, P. Tuantranont, A. Thongsuwan, W. TiO2 film sparking process external electric fields We have used an external electric field to increase both the uniformity and deposition rate of TiO2 films. The experiment is carried out by sparking-off titanium wires with a high dc voltage of 1 kV (field Eint = 10 kV/cm) and a limited current of 3 mA. The external electric fields (Eext) of 3, 6, and 9 kV/cm were applied to the sparking system for 1–5 hours. The as-deposited film morphology was characterized by scanning electron microscopy. The results clearly show that the films are only deposited on the external electric field area. Furthermore, the deposition rate of the films increased from 40.7% to 77.8% in the presence of the external electric field of 9 kV/cm. The effects of an external electric field on both the deposition rate and uniformity of films are investigated and described. Зовнiшнє електричне поле застосовано для збiльшення однорiдностi i швидкостi утворення плiвок TiO2. Експеримент виконано iскровим розрядом з Ti дротiв при сталiй напрузi 1 кВ (поле Eint = 10 кВ/см) i невеликому струмi 3 мА. Система iскрового розряду перебувала в зовнiшнiх електричних полях (Eext) 3, 6, i 9 кВ/см вiд 1 до 5 годин. Морфологiя тiльки що приготовлених плiвок визначалася методом растрової електронної мiкроскопiї. Показано, що плiвки формуються тiльки в областi дiї зовнiшнього електричного поля. У зовнiшньому електричному полi 9 кВ/см швидкiсть утворення плiвок збiльшилася з 40,7% до 77,8%. Дослiджено i описано дiю зовнiшнього електричного поля на швидкiсть утворення i однорiднiсть плiвок. Publishing house "Academperiodika" 2018-07-12 Article Article Original Research Article (peer-reviewed) Оригінальна дослідницька стаття (з незалежним рецензуванням) application/pdf https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/117 10.15407/ujpe63.6.531 Ukrainian Journal of Physics; Vol. 63 No. 6 (2018); 531 Український фізичний журнал; Том 63 № 6 (2018); 531 2071-0194 2071-0186 10.15407/ujpe63.6 en https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/117/111 |
| institution |
Ukrainian Journal of Physics |
| collection |
OJS |
| language |
English |
| topic |
TiO2 film sparking process external electric fields |
| spellingShingle |
TiO2 film sparking process external electric fields Thongpan, W. Kumpika, T. Kantarak, E. Panthawan, A. Pooseekheaw, P. Singjai, P. Tuantranont, A. Thongsuwan, W. Поліпшення однорідності і збільшення швидкості утворення іскровим розрядом TiO2 плівок у зовнішньому електричному полі |
| topic_facet |
TiO2 film sparking process external electric fields |
| format |
Article |
| author |
Thongpan, W. Kumpika, T. Kantarak, E. Panthawan, A. Pooseekheaw, P. Singjai, P. Tuantranont, A. Thongsuwan, W. |
| author_facet |
Thongpan, W. Kumpika, T. Kantarak, E. Panthawan, A. Pooseekheaw, P. Singjai, P. Tuantranont, A. Thongsuwan, W. |
| author_sort |
Thongpan, W. |
| title |
Поліпшення однорідності і збільшення швидкості утворення іскровим розрядом TiO2 плівок у зовнішньому електричному полі |
| title_short |
Поліпшення однорідності і збільшення швидкості утворення іскровим розрядом TiO2 плівок у зовнішньому електричному полі |
| title_full |
Поліпшення однорідності і збільшення швидкості утворення іскровим розрядом TiO2 плівок у зовнішньому електричному полі |
| title_fullStr |
Поліпшення однорідності і збільшення швидкості утворення іскровим розрядом TiO2 плівок у зовнішньому електричному полі |
| title_full_unstemmed |
Поліпшення однорідності і збільшення швидкості утворення іскровим розрядом TiO2 плівок у зовнішньому електричному полі |
| title_sort |
поліпшення однорідності і збільшення швидкості утворення іскровим розрядом tio2 плівок у зовнішньому електричному полі |
| title_alt |
External-Electric-Field-Enhanced Uniformity and Deposition Rate of a TiO2 Film Prepared by the Sparking Process |
| description |
We have used an external electric field to increase both the uniformity and deposition rate of TiO2 films. The experiment is carried out by sparking-off titanium wires with a high dc voltage of 1 kV (field Eint = 10 kV/cm) and a limited current of 3 mA. The external electric fields (Eext) of 3, 6, and 9 kV/cm were applied to the sparking system for 1–5 hours. The as-deposited film morphology was characterized by scanning electron microscopy. The results clearly show that the films are only deposited on the external electric field area. Furthermore, the deposition rate of the films increased from 40.7% to 77.8% in the presence of the external electric field of 9 kV/cm. The effects of an external electric field on both the deposition rate and uniformity of films are investigated and described. |
| publisher |
Publishing house "Academperiodika" |
| publishDate |
2018 |
| url |
https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/117 |
| work_keys_str_mv |
AT thongpanw externalelectricfieldenhanceduniformityanddepositionrateofatio2filmpreparedbythesparkingprocess AT kumpikat externalelectricfieldenhanceduniformityanddepositionrateofatio2filmpreparedbythesparkingprocess AT kantarake externalelectricfieldenhanceduniformityanddepositionrateofatio2filmpreparedbythesparkingprocess AT panthawana externalelectricfieldenhanceduniformityanddepositionrateofatio2filmpreparedbythesparkingprocess AT pooseekheawp externalelectricfieldenhanceduniformityanddepositionrateofatio2filmpreparedbythesparkingprocess AT singjaip externalelectricfieldenhanceduniformityanddepositionrateofatio2filmpreparedbythesparkingprocess AT tuantranonta externalelectricfieldenhanceduniformityanddepositionrateofatio2filmpreparedbythesparkingprocess AT thongsuwanw externalelectricfieldenhanceduniformityanddepositionrateofatio2filmpreparedbythesparkingprocess AT thongpanw polípšennâodnorídnostíízbílʹšennâšvidkostíutvorennâískrovimrozrâdomtio2plívokuzovníšnʹomuelektričnomupolí AT kumpikat polípšennâodnorídnostíízbílʹšennâšvidkostíutvorennâískrovimrozrâdomtio2plívokuzovníšnʹomuelektričnomupolí AT kantarake polípšennâodnorídnostíízbílʹšennâšvidkostíutvorennâískrovimrozrâdomtio2plívokuzovníšnʹomuelektričnomupolí AT panthawana polípšennâodnorídnostíízbílʹšennâšvidkostíutvorennâískrovimrozrâdomtio2plívokuzovníšnʹomuelektričnomupolí AT pooseekheawp polípšennâodnorídnostíízbílʹšennâšvidkostíutvorennâískrovimrozrâdomtio2plívokuzovníšnʹomuelektričnomupolí AT singjaip polípšennâodnorídnostíízbílʹšennâšvidkostíutvorennâískrovimrozrâdomtio2plívokuzovníšnʹomuelektričnomupolí AT tuantranonta polípšennâodnorídnostíízbílʹšennâšvidkostíutvorennâískrovimrozrâdomtio2plívokuzovníšnʹomuelektričnomupolí AT thongsuwanw polípšennâodnorídnostíízbílʹšennâšvidkostíutvorennâískrovimrozrâdomtio2plívokuzovníšnʹomuelektričnomupolí |
| first_indexed |
2023-03-24T08:54:34Z |
| last_indexed |
2023-03-24T08:54:34Z |
| _version_ |
1795757586909233152 |