Рекомбiнацiйнi характеристики пластин монокристалiчного кремнiю з приповерхневим порушеним шаром

Spectral dependences of the small-signal surface photovoltage, Vf (л), with a region of short- wave recession have been studied experimentally and theoretically. The dependences Vf (л) are shown to enable important information concerning a modification of surface and bulk recombination properties of...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2018
Hauptverfasser: Sachenko, A. V., Kostylyov, V. P., Litovchenko, V. G., Popov, V. G., Romanyuk, B. M., Chernenko, V. V., Naseka, V. M., Slusar, T. V., Kyrylova, S. I., Komarov, F. F.
Format: Artikel
Sprache:Englisch
Veröffentlicht: Publishing house "Academperiodika" 2018
Online Zugang:https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018278
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Ukrainian Journal of Physics

Institution

Ukrainian Journal of Physics
_version_ 1863131159911727104
author Sachenko, A. V.
Kostylyov, V. P.
Litovchenko, V. G.
Popov, V. G.
Romanyuk, B. M.
Chernenko, V. V.
Naseka, V. M.
Slusar, T. V.
Kyrylova, S. I.
Komarov, F. F.
author_facet Sachenko, A. V.
Kostylyov, V. P.
Litovchenko, V. G.
Popov, V. G.
Romanyuk, B. M.
Chernenko, V. V.
Naseka, V. M.
Slusar, T. V.
Kyrylova, S. I.
Komarov, F. F.
author_sort Sachenko, A. V.
baseUrl_str https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/oai
collection OJS
datestamp_date 2019-03-05T08:29:57Z
description Spectral dependences of the small-signal surface photovoltage, Vf (л), with a region of short- wave recession have been studied experimentally and theoretically. The dependences Vf (л) are shown to enable important information concerning a modification of surface and bulk recombination properties of the photosensitive silicon material in the short-wave spectral range to be obtained experimentally with the use of a nondestructive technique. In particular, theformation of a damaged near-surface layer owing to the Fe implantation is found to bring about a significant decrease in the diffusion length (i.e. the lifetime) in the implanted layer and an increase of the effective surface recombination rate on the illuminated surface.
doi_str_mv 10.15407/ujpe58.02.0142
first_indexed 2025-10-02T01:14:15Z
format Article
id ujp2-article-2018278
institution Ukrainian Journal of Physics
keywords_txt_mv keywords
language English
last_indexed 2025-10-02T01:14:15Z
publishDate 2018
publisher Publishing house "Academperiodika"
record_format ojs
spelling ujp2-article-20182782019-03-05T08:29:57Z Recombination Characteristics of Single-Crystalline Silicon Wafers with a Damaged Near-Surface Layer Рекомбiнацiйнi характеристики пластин монокристалiчного кремнiю з приповерхневим порушеним шаром Sachenko, A. V. Kostylyov, V. P. Litovchenko, V. G. Popov, V. G. Romanyuk, B. M. Chernenko, V. V. Naseka, V. M. Slusar, T. V. Kyrylova, S. I. Komarov, F. F. surface photovoltage surface recombination silicon Spectral dependences of the small-signal surface photovoltage, Vf (л), with a region of short- wave recession have been studied experimentally and theoretically. The dependences Vf (л) are shown to enable important information concerning a modification of surface and bulk recombination properties of the photosensitive silicon material in the short-wave spectral range to be obtained experimentally with the use of a nondestructive technique. In particular, theformation of a damaged near-surface layer owing to the Fe implantation is found to bring about a significant decrease in the diffusion length (i.e. the lifetime) in the implanted layer and an increase of the effective surface recombination rate on the illuminated surface. Експериментально та теоретично дослiджено спектральнi залежностi малосигнальної конденсаторної фото-ерс Vf (л) з дiлянкою короткохвильового спаду. Показано, що в короткохвильовiй областi спектра залежностi Vf (л) дозволяють отримати з використанням експериментально неруйнiвного методу важливу iнформацiю про змiну рекомбiнацiйних властивостей поверхнi та об’єму фоточутливого кремнiєвого матерiалу. Встановлено, зокрема, що створення порушеного приповерхневого шару за рахунок iмплантацiї залiза приводить як до сильного зменшення об’ємної довжини дифузiї (тобто часу життя) в iмплантованому шарi, так i до зростання ефективної швидкостi поверхневої рекомбiнацiї на освiтлюванiй поверхнi. Publishing house "Academperiodika" 2018-10-05 Article Article Peer-reviewed Рецензована стаття application/pdf https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018278 10.15407/ujpe58.02.0142 Ukrainian Journal of Physics; Vol. 58 No. 2 (2013); 142 Український фізичний журнал; Том 58 № 2 (2013); 142 2071-0194 2071-0186 10.15407/ujpe58.02 en https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018278/200 Copyright (c) 2018 Bogolyubov Institute for Theoretical Physics, National Academy of Sciences of Ukraine
spellingShingle Sachenko, A. V.
Kostylyov, V. P.
Litovchenko, V. G.
Popov, V. G.
Romanyuk, B. M.
Chernenko, V. V.
Naseka, V. M.
Slusar, T. V.
Kyrylova, S. I.
Komarov, F. F.
Рекомбiнацiйнi характеристики пластин монокристалiчного кремнiю з приповерхневим порушеним шаром
title Рекомбiнацiйнi характеристики пластин монокристалiчного кремнiю з приповерхневим порушеним шаром
title_alt Recombination Characteristics of Single-Crystalline Silicon Wafers with a Damaged Near-Surface Layer
title_full Рекомбiнацiйнi характеристики пластин монокристалiчного кремнiю з приповерхневим порушеним шаром
title_fullStr Рекомбiнацiйнi характеристики пластин монокристалiчного кремнiю з приповерхневим порушеним шаром
title_full_unstemmed Рекомбiнацiйнi характеристики пластин монокристалiчного кремнiю з приповерхневим порушеним шаром
title_short Рекомбiнацiйнi характеристики пластин монокристалiчного кремнiю з приповерхневим порушеним шаром
title_sort рекомбiнацiйнi характеристики пластин монокристалiчного кремнiю з приповерхневим порушеним шаром
topic_facet surface photovoltage
surface recombination
silicon
url https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018278
work_keys_str_mv AT sachenkoav recombinationcharacteristicsofsinglecrystallinesiliconwaferswithadamagednearsurfacelayer
AT kostylyovvp recombinationcharacteristicsofsinglecrystallinesiliconwaferswithadamagednearsurfacelayer
AT litovchenkovg recombinationcharacteristicsofsinglecrystallinesiliconwaferswithadamagednearsurfacelayer
AT popovvg recombinationcharacteristicsofsinglecrystallinesiliconwaferswithadamagednearsurfacelayer
AT romanyukbm recombinationcharacteristicsofsinglecrystallinesiliconwaferswithadamagednearsurfacelayer
AT chernenkovv recombinationcharacteristicsofsinglecrystallinesiliconwaferswithadamagednearsurfacelayer
AT nasekavm recombinationcharacteristicsofsinglecrystallinesiliconwaferswithadamagednearsurfacelayer
AT slusartv recombinationcharacteristicsofsinglecrystallinesiliconwaferswithadamagednearsurfacelayer
AT kyrylovasi recombinationcharacteristicsofsinglecrystallinesiliconwaferswithadamagednearsurfacelayer
AT komarovff recombinationcharacteristicsofsinglecrystallinesiliconwaferswithadamagednearsurfacelayer
AT sachenkoav rekombinacijniharakteristikiplastinmonokristaličnogokremniûzpripoverhnevimporušenimšarom
AT kostylyovvp rekombinacijniharakteristikiplastinmonokristaličnogokremniûzpripoverhnevimporušenimšarom
AT litovchenkovg rekombinacijniharakteristikiplastinmonokristaličnogokremniûzpripoverhnevimporušenimšarom
AT popovvg rekombinacijniharakteristikiplastinmonokristaličnogokremniûzpripoverhnevimporušenimšarom
AT romanyukbm rekombinacijniharakteristikiplastinmonokristaličnogokremniûzpripoverhnevimporušenimšarom
AT chernenkovv rekombinacijniharakteristikiplastinmonokristaličnogokremniûzpripoverhnevimporušenimšarom
AT nasekavm rekombinacijniharakteristikiplastinmonokristaličnogokremniûzpripoverhnevimporušenimšarom
AT slusartv rekombinacijniharakteristikiplastinmonokristaličnogokremniûzpripoverhnevimporušenimšarom
AT kyrylovasi rekombinacijniharakteristikiplastinmonokristaličnogokremniûzpripoverhnevimporušenimšarom
AT komarovff rekombinacijniharakteristikiplastinmonokristaličnogokremniûzpripoverhnevimporušenimšarom