Дослiдження розповсюдження температурних профiлiв в нестехiометричних плiвках SiOx при лазерному вiдпалi
The distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at the single pulse laser annealing has been studied theoretically. Temperature distributions on the surface of the SiOx films at irradiation by a laser beam with various intensities have been calculated. Temperature distributi...
Збережено в:
| Дата: | 2018 |
|---|---|
| Автори: | , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Publishing house "Academperiodika"
2018
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018499 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Ukrainian Journal of Physics |
Репозитарії
Ukrainian Journal of Physics| id |
ujp2-article-2018499 |
|---|---|
| record_format |
ojs |
| spelling |
ujp2-article-20184992019-03-31T08:23:55Z Study of the Distribution Oftemperature Profiles in Nonstoichiometric SiOx Films at Laser Annealing Дослiдження розповсюдження температурних профiлiв в нестехiометричних плiвках SiOx при лазерному вiдпалi Gavrylyuk, O. O. Semchuk, O. Yu. Steblova, O. V. Evtukh, A. A. Fedorenko, L. L. SiOx films thermal conductivity nanocrystals The distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at the single pulse laser annealing has been studied theoretically. Temperature distributions on the surface of the SiOx films at irradiation by a laser beam with various intensities have been calculated. Temperature distributions on various depths of the SiOx films at irradiation by a laser beam with an intensity of 52 МW/cm2 have been found. During the laser pulse of 10 ns with an intensity of 52 MW/cm2, the temperature up to 1800 K can be reached on the specimen surface. Проведено теоретичне дослiдження розповсюдження температурних профiлiв в нестехiометричних плiвках SiOx при лазерному вiдпалi одиничним iмпульсом. Розраховано розподiл температури на поверхнi плiвок SiOx, опромiнених лазерним променем з рiзною iнтенсивнiстю. Знайдено розподiл температури на рiзнiй глибинi плiвок SiOx, опромiнених лазерним променем з iнтенсивнiстю 52 МВт/cм2. Показано, що при лазерному вiдпалi з iнтенсивнiстю 52 МВт/cм2 температура на поверхнi плiвок SiOx може досягати 1800 К. Publishing house "Academperiodika" 2018-10-24 Article Article Peer-reviewed Рецензована стаття application/pdf https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018499 10.15407/ujpe59.07.0712 Ukrainian Journal of Physics; Vol. 59 No. 7 (2014); 712 Український фізичний журнал; Том 59 № 7 (2014); 712 2071-0194 2071-0186 10.15407/ujpe59.07 en https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018499/525 Copyright (c) 2018 Bogolyubov Institute for Theoretical Physics, National Academy of Sciences of Ukraine |
| institution |
Ukrainian Journal of Physics |
| collection |
OJS |
| language |
English |
| topic |
SiOx films thermal conductivity nanocrystals |
| spellingShingle |
SiOx films thermal conductivity nanocrystals Gavrylyuk, O. O. Semchuk, O. Yu. Steblova, O. V. Evtukh, A. A. Fedorenko, L. L. Дослiдження розповсюдження температурних профiлiв в нестехiометричних плiвках SiOx при лазерному вiдпалi |
| topic_facet |
SiOx films thermal conductivity nanocrystals |
| format |
Article |
| author |
Gavrylyuk, O. O. Semchuk, O. Yu. Steblova, O. V. Evtukh, A. A. Fedorenko, L. L. |
| author_facet |
Gavrylyuk, O. O. Semchuk, O. Yu. Steblova, O. V. Evtukh, A. A. Fedorenko, L. L. |
| author_sort |
Gavrylyuk, O. O. |
| title |
Дослiдження розповсюдження температурних профiлiв в нестехiометричних плiвках SiOx при лазерному вiдпалi |
| title_short |
Дослiдження розповсюдження температурних профiлiв в нестехiометричних плiвках SiOx при лазерному вiдпалi |
| title_full |
Дослiдження розповсюдження температурних профiлiв в нестехiометричних плiвках SiOx при лазерному вiдпалi |
| title_fullStr |
Дослiдження розповсюдження температурних профiлiв в нестехiометричних плiвках SiOx при лазерному вiдпалi |
| title_full_unstemmed |
Дослiдження розповсюдження температурних профiлiв в нестехiометричних плiвках SiOx при лазерному вiдпалi |
| title_sort |
дослiдження розповсюдження температурних профiлiв в нестехiометричних плiвках siox при лазерному вiдпалi |
| title_alt |
Study of the Distribution Oftemperature Profiles in Nonstoichiometric SiOx Films at Laser Annealing |
| description |
The distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at the single pulse laser annealing has been studied theoretically. Temperature distributions on the surface of the SiOx films at irradiation by a laser beam with various intensities have been calculated. Temperature distributions on various depths of the SiOx films at irradiation by a laser beam with an intensity of 52 МW/cm2 have been found. During the laser pulse of 10 ns with an intensity of 52 MW/cm2, the temperature up to 1800 K can be reached on the specimen surface. |
| publisher |
Publishing house "Academperiodika" |
| publishDate |
2018 |
| url |
https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018499 |
| work_keys_str_mv |
AT gavrylyukoo studyofthedistributionoftemperatureprofilesinnonstoichiometricsioxfilmsatlaserannealing AT semchukoyu studyofthedistributionoftemperatureprofilesinnonstoichiometricsioxfilmsatlaserannealing AT steblovaov studyofthedistributionoftemperatureprofilesinnonstoichiometricsioxfilmsatlaserannealing AT evtukhaa studyofthedistributionoftemperatureprofilesinnonstoichiometricsioxfilmsatlaserannealing AT fedorenkoll studyofthedistributionoftemperatureprofilesinnonstoichiometricsioxfilmsatlaserannealing AT gavrylyukoo doslidžennârozpovsûdžennâtemperaturnihprofilivvnestehiometričnihplivkahsioxprilazernomuvidpali AT semchukoyu doslidžennârozpovsûdžennâtemperaturnihprofilivvnestehiometričnihplivkahsioxprilazernomuvidpali AT steblovaov doslidžennârozpovsûdžennâtemperaturnihprofilivvnestehiometričnihplivkahsioxprilazernomuvidpali AT evtukhaa doslidžennârozpovsûdžennâtemperaturnihprofilivvnestehiometričnihplivkahsioxprilazernomuvidpali AT fedorenkoll doslidžennârozpovsûdžennâtemperaturnihprofilivvnestehiometričnihplivkahsioxprilazernomuvidpali |
| first_indexed |
2023-03-24T08:55:59Z |
| last_indexed |
2023-03-24T08:55:59Z |
| _version_ |
1795757627699888128 |