Дослiдження розповсюдження температурних профiлiв в нестехiометричних плiвках SiOx при лазерному вiдпалi
The distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at the single pulse laser annealing has been studied theoretically. Temperature distributions on the surface of the SiOx films at irradiation by a laser beam with various intensities have been calculated. Temperature distributi...
Gespeichert in:
| Datum: | 2018 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
Publishing house "Academperiodika"
2018
|
| Online Zugang: | https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018499 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Ukrainian Journal of Physics |