2025-02-22T16:03:13-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: Query fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22ujp2-article-2018573%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-22T16:03:13-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: => GET http://localhost:8983/solr/biblio/select?fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22ujp2-article-2018573%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-22T16:03:13-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: <= 200 OK
2025-02-22T16:03:13-05:00 DEBUG: Deserialized SOLR response

Фотоелектричні властивості плівок SiGe, покритих шарами аморфного та полікристалічного кремнію

Виявлено, що тонкi шари аморфного та полiкристалiчного Si (вiдповiдно a-Si та poly-Si), нанесенi на поверхню Ge0,25Si0,75, суттєво зменшують величину негативної фото-ЕРС, вiдтворюванiй у шарi Ge0,25Si0,75, нанесеному на пiдкладку кристалiчного Si. У той самий час, при достатнiй глибинi проникнення с...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors: Shmid, V., Podolian, A., Nadtochiy, A., Korotchenkov, O., Romanyuk, B., Melnik, V., Popov, V., Kosulya, O.
Format: Article
Language:English
Ukrainian
Published: Publishing house "Academperiodika" 2019
Subjects:
Online Access:https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018573
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Description
Summary:Виявлено, що тонкi шари аморфного та полiкристалiчного Si (вiдповiдно a-Si та poly-Si), нанесенi на поверхню Ge0,25Si0,75, суттєво зменшують величину негативної фото-ЕРС, вiдтворюванiй у шарi Ge0,25Si0,75, нанесеному на пiдкладку кристалiчного Si. У той самий час, при достатнiй глибинi проникнення свiтла, що включає обидва нанесенi шари та приповерхневу область пiдкладки Si, у промiжки часу, бiльшi за ≈10–20 мкс пiсля закiнчення свiтлового iмпульсу, спостерiгається фото-ЕРС позитивного знака. Виявлено також, що насичення киснем шару a-Si в гетероструктурi a-Si/Ge0,25Si0,75/c-Si призводить до суттєвого зростання величини додатної складової сигналу фото-ЕРС (в 6 разiв у наших експериментах). Такий ефект може бути використано для розробки ефективних сонячних елементiв на основi гетероструктури a-Si/GexSi1−x/c-Si.