Імплантація іонів дейтерію та гелію у композиційну структуру з вольфрамовим покриттям

• Дата: 2020
• Автори: Bobkov, V. V., Tishchenko, L. P., Kovtunenko, Yu. I., Starovoytov, R. I., Logachev, Yu. E., Tsapenko, A. B., Gamayunova, L. A.
• Формат: Стаття
• Мова: English; Ukrainian
• Опубліковано: Publishing house "Academperiodika" 2020
• Теми: radiation-induced defects; deuterium; helium; ion implantation; thermal desorption; tungsten coating; composite materials; -; радiацiйнi дефекти; дейтерiй; гелiй; iонна iмплантацiя; термодесорбцiя; вольфрамовi покриття; композицiйнi матерiали
• Онлайн доступ: https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2018585
• Назва журналу: Ukrainian Journal of Physics

Дослiджено захоплення, утримання та термодесорбцiю iонно-iмплантованих дейтерiю та гелiю, утворення радiацiйних пошкоджень кристалiчної ґратки вольфрамових покриттiв багатошарових функцiональних структур, опромiнених iонами D+ та He+ середнiх енергiй. Дослiдження проведено за допомогою методiв термодесорбцiйної спектрометрiї та електронної мiкроскопiї. Поведiнку дейтерiю та гелiю у матерiалах вивчали в залежностi вiд температури постiмплантацiйного нагрiву, дози опромiнення iонами He+ та D+ i умов опромiнення iонами: iндивiдуальне або послiдовне. Запропоновано типи утворюваних радiацiйних дефектiв та механiзми їх вiдпалу.